大比例尺真正射影像制作关键技术研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 研究背景与意义 | 第8页 |
1.2 国内外研究现状 | 第8-9页 |
1.3 当前研究面临的问题 | 第9-10页 |
1.4 论文主要内容及安排 | 第10-12页 |
第二章 大比例尺真正射影像制作技术分析 | 第12-18页 |
2.1 真正射影像处理流程 | 第13-15页 |
2.2 遮挡检测与补偿技术方法 | 第15-16页 |
2.3 阴影检测与增强技术方法 | 第16-17页 |
2.4 本章小结 | 第17-18页 |
第三章 遮挡检测与补偿 | 第18-42页 |
3.1 遮挡检测 | 第18-36页 |
3.1.1 基于距离的方法 | 第20-25页 |
3.1.2 基于角度的方法 | 第25-28页 |
3.1.3 射线跟踪法 | 第28-29页 |
3.1.4 改进的DBM方法 | 第29-32页 |
3.1.5 实验结果与分析 | 第32-36页 |
3.2 遮挡补偿 | 第36-40页 |
3.2.1 相邻影像补偿 | 第37-38页 |
3.2.2 临近像素补偿 | 第38-39页 |
3.2.3 实验结果与分析 | 第39-40页 |
3.3 本章小结 | 第40-42页 |
第四章 阴影检测与增强 | 第42-59页 |
4.1 彩色影像阴影检测 | 第42-52页 |
4.1.1 基于RGB彩色空间的阴影检测 | 第42-44页 |
4.1.2 归一化RGB空间的阴影检测 | 第44页 |
4.1.3 基于HSV空间的阴影检测 | 第44-46页 |
4.1.4 K-L变换和影像分割结合的阴影检测 | 第46-49页 |
4.1.5 实验结果与分析 | 第49-52页 |
4.2 阴影增强 | 第52-58页 |
4.2.1 阴影增强预处理 | 第52-53页 |
4.2.2 Wallis滤波阴影增强 | 第53-54页 |
4.2.3 临近区域映射阴影增强 | 第54-55页 |
4.2.4 实验结果与分析 | 第55-58页 |
4.3 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 原型系统设计与实现 | 第59-67页 |
5.1 原型系统框架 | 第59-61页 |
5.1.1 系统技术设计路线 | 第59-60页 |
5.1.2 系统模块组成 | 第60-61页 |
5.2 原型系统功能 | 第61-66页 |
5.2.1 参数获取与几何纠正 | 第61-62页 |
5.2.2 遮挡检测与补偿 | 第62-63页 |
5.2.3 阴影检测与增强 | 第63-66页 |
5.3 本章小结 | 第66-67页 |
第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
6.1 总结 | 第67-68页 |
6.2 展望 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-73页 |
作者简历 | 第73页 |