| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| ·ZnO晶体结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第13-15页 |
| ·太阳能电池和光伏电池 | 第13-14页 |
| ·在光电器件领域的应用 | 第14页 |
| ·气敏压敏元件 | 第14-15页 |
| ·紫外探测器 | 第15页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第15-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备方法 | 第19-27页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法简介 | 第19-22页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第19-20页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第20页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第21-22页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第22-26页 |
| ·射频磁控溅射技术简介 | 第22-23页 |
| ·射频磁控溅射工作原理 | 第23页 |
| ·射频溅射镀膜的特点 | 第23-24页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-27页 |
| 第三章 ZnO薄膜特性的检测手段 | 第27-35页 |
| ·X射线衍射 | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜 | 第28-29页 |
| ·卢瑟福背散射分析技术 | 第29-30页 |
| ·背散射分析技术简介 | 第29页 |
| ·卢瑟福背散射分析的基本原理 | 第29-30页 |
| ·背散射分析实验 | 第30页 |
| ·背散射分析的优点 | 第30页 |
| ·棱镜耦合仪 | 第30-33页 |
| ·棱镜耦合的原理 | 第30-32页 |
| ·Metricon Model 2010棱镜耦合仪 | 第32-33页 |
| ·透射谱 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第四章 制备工艺对ZnO薄膜结构及光学性质的影响 | 第35-70页 |
| ·工作压强对薄膜结构和光学性质的影响 | 第36-45页 |
| ·实验过程 | 第36页 |
| ·实验结果及分析讨论 | 第36-45页 |
| ·溅射功率对ZnO薄膜结构和光学性质的影响 | 第45-51页 |
| ·实验过程 | 第45-46页 |
| ·实验结果及分析讨论 | 第46-51页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构和光学性质的影响 | 第51-59页 |
| ·实验过程 | 第51-52页 |
| ·实验结果及分析讨论 | 第52-59页 |
| ·溅射时间对ZnO薄膜结构和光学性质的影响 | 第59-67页 |
| ·实验过程 | 第59页 |
| ·实验结果及分析讨论 | 第59-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第五章 总结和展望 | 第70-74页 |
| ·主要结果 | 第70-72页 |
| ·主要创新点 | 第72页 |
| ·工作展望 | 第72-74页 |
| 后记 | 第74-75页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第75-76页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第76页 |