无溶剂条件下微波辅助硫氰酸酯和磺酰腈类化合物的合成
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 前言 | 第9-19页 |
1.1 无溶剂反应中微波辐射技术的应用 | 第9-12页 |
1.2 相转移催化在有机合成中的应用 | 第12-14页 |
1.3 磺酰腈类化合物在有机合成中的应用 | 第14-16页 |
1.3.1 磺酰腈制备1,5-二取代四唑 | 第14-15页 |
1.3.2 磺酰腈类制备酰基腈 | 第15页 |
1.3.3 磺酰腈类用于环加成反应 | 第15-16页 |
1.3.4 磺酰腈合成N-磺酰亚胺类化合物 | 第16页 |
1.3.5 磺酰腈类化合物的亲核取代反应 | 第16页 |
1.4 有机合成中氨基保护与脱保护 | 第16-18页 |
1.4.1 形成酰胺法 | 第17页 |
1.4.2 形成烷氧羰基法 | 第17页 |
1.4.3 形成Schiff 碱保护氨基 | 第17-18页 |
1.4.4 形成N-烷基衍生物的保护法 | 第18页 |
1.5 本论文研究的内容及目的 | 第18-19页 |
第2章 无溶剂条件下微波辅助合成硫氰酸酯类化合物 | 第19-25页 |
2.1 引言 | 第19-20页 |
2.2 实验部分 | 第20-21页 |
2.2.1 试剂与仪器 | 第20页 |
2.2.2 实验方法与步骤 | 第20-21页 |
2.3 结果与讨论 | 第21-24页 |
2.4 结论 | 第24-25页 |
第3章 磺酰腈类化合物的合成 | 第25-31页 |
3.1 引言 | 第25-26页 |
3.2 实验部分 | 第26-27页 |
3.2.1 试剂与仪器 | 第26页 |
3.2.2 实验方法与步骤 | 第26-27页 |
3.3 结果与讨论 | 第27-30页 |
3.4 结论 | 第30-31页 |
第4章 氨基的保护与脱保护 | 第31-34页 |
4.1 引言 | 第31页 |
4.2 实验部分 | 第31-32页 |
4.2.1 试剂与仪器 | 第31页 |
4.2.2 实验方法与步骤 | 第31-32页 |
4.3 结果与讨论 | 第32-33页 |
4.4 结论 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-39页 |
硕士期间发表论文的情况 | 第39-40页 |
致谢 | 第40页 |