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金属氧化物半导体多孔膜材料气敏过程中的导电行为研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
1 绪论第11-32页
    1.1 引言第11-13页
    1.2 金属氧化物半导体的气敏导电机理第13-20页
    1.3 金属氧化物半导体气敏导电模型研究进展第20-28页
    1.4 本文的选题思路及主要工作内容第28-32页
2 高通量热激发气敏测试平台设计与实现第32-47页
    2.1 引言第32页
    2.2 平台的设计思路第32-34页
    2.3 平台的实现方式第34-42页
    2.4 平台的性能评价第42-45页
    2.5 本章小结第45-47页
3 ZnO单相材料在气敏过程中的导电行为第47-64页
    3.1 引言第47-49页
    3.2 导电模型理论推导第49-52页
    3.3 实验部分第52-55页
    3.4 ZnO敏感膜形貌表征第55-57页
    3.5 I-V曲线测试结果第57-59页
    3.6 I-t曲线结果与“阀门效应”第59-62页
    3.7 本章小结第62-64页
4 CuO-ZnO复相材料在气敏过程中的导电行为第64-81页
    4.1 引言第64-65页
    4.2 实验部分第65-69页
    4.3 叠层敏感膜形貌表征第69-70页
    4.4 纯CuO和ZnO的响应结果分析第70-72页
    4.5 CuO/ZnO叠层结构的响应结果及导电机理分析第72-77页
    4.6 过冲现象及其形成机制分析第77-80页
    4.7 本章小结第80-81页
5 多外场耦合诱导下SnO_2的气敏导电行为第81-101页
    5.1 引言第81-83页
    5.2 实验部分第83-85页
    5.3 I-V曲线测试结果分析第85-87页
    5.4 晶界分立能级对载流子捕获效应第87-90页
    5.5 非线性I-V曲线诱导机理第90-94页
    5.6 I-t响应曲线测试结果分析第94-97页
    5.7 原位红外漫反射结果分析第97-99页
    5.8 本章小结第99-101页
6 全文总结第101-104页
    6.1 主要结论第101-102页
    6.2 本文的创新之处第102-103页
    6.3 相关工作展望第103-104页
致谢第104-106页
参考文献第106-119页
附录1 攻读博士学位期间撰写与发表的论文第119页

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