| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第11-13页 |
| 第一章 综述 | 第13-25页 |
| 1.1 氨的来源与危害 | 第13-14页 |
| 1.2 NH_3的处理技术 | 第14-15页 |
| 1.2.1 吸附/吸收法 | 第14页 |
| 1.2.2 生物法 | 第14页 |
| 1.2.3 催化分解法 | 第14-15页 |
| 1.2.4 光催化法 | 第15页 |
| 1.2.5 催化氧化法 | 第15页 |
| 1.3 氨选择性催化氧化的机理 | 第15-16页 |
| 1.4 择性催化氧化NH_3催化剂的研究进展 | 第16-21页 |
| 1.4.1 贵金属类催化剂 | 第16-17页 |
| 1.4.2 过渡金属氧化物类催化剂 | 第17-20页 |
| 1.4.3 分子筛类催化剂 | 第20-21页 |
| 1.5 立题依据和研究内容 | 第21-25页 |
| 1.5.1 立题依据 | 第21-23页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-31页 |
| 2.1 研究思路 | 第25页 |
| 2.2 实验仪器、实验气体和化学试剂 | 第25-27页 |
| 2.3 催化剂的活性评价 | 第27-28页 |
| 2.4 催化氧化活性装置 | 第28页 |
| 2.5 催化剂的表征 | 第28-31页 |
| 2.5.1 N_2吸附-脱附测定 | 第28页 |
| 2.5.2 X射线衍射(XRD) | 第28页 |
| 2.5.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
| 2.5.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR)测试 | 第28-29页 |
| 2.5.5 紫外可见漫反射光谱(UV-vis) | 第29-31页 |
| 第三章 Cu/SAPO-34催化剂NH_3-SCO活性及抗水热性能研究 | 第31-43页 |
| 3.1 前言 | 第31页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第31-32页 |
| 3.3 不同铜含量催化剂活性评价 | 第32-33页 |
| 3.4 X射线衍射(XRD)分析 | 第33-34页 |
| 3.5 总比表面积 | 第34-35页 |
| 3.6 紫外可见漫反射光谱(UV-vis)分析 | 第35-36页 |
| 3.7 H_2-程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第36-37页 |
| 3.8 水热处理对催化活性的影响 | 第37-38页 |
| 3.9 X射线衍射(XRD)分析 | 第38-39页 |
| 3.10 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第39-40页 |
| 3.11 紫外可见漫反射光谱(UV-vis)分析 | 第40-41页 |
| 3.12 H_2-程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第41页 |
| 3.13 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 稀土元素Ce改性Cu/SAPO-34对催化活性及抗水热性能研究 | 第43-57页 |
| 4.1 前言 | 第43页 |
| 4.2 催化剂的制备 | 第43-44页 |
| 4.3 不同铜含量催化剂活性评价 | 第44-46页 |
| 4.4 X射线衍射(XRD)分析 | 第46-47页 |
| 4.5 总比表面分析 | 第47-48页 |
| 4.6 紫外可见漫反射光谱(UV-vis)分析 | 第48-49页 |
| 4.7 H_2-程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第49-50页 |
| 4.8 水热处理对催化剂活性的影响 | 第50-51页 |
| 4.9 X射线衍射(XRD)分析 | 第51-52页 |
| 4.10 总比表面分析 | 第52页 |
| 4.11 紫外可见漫反射光谱(UV-vis)分析 | 第52-53页 |
| 4.12 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第53-54页 |
| 4.13 H_2-程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第54-55页 |
| 4.14 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 结论 | 第57页 |
| 5.2 展望 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 附录 | 第69-71页 |
| 附录A 硕士研究生期间研究成果 | 第69-71页 |
| 附录B 硕士研究生期间参与的科研项目 | 第71页 |
