| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 曲面微透镜阵列的制作及现状 | 第9-20页 |
| 1.2.1 软光刻技术 | 第9-11页 |
| 1.2.2 热熔融技术 | 第11-13页 |
| 1.2.3 液滴成型技术 | 第13-15页 |
| 1.2.4 金刚石铣削技术 | 第15-16页 |
| 1.2.5 飞秒激光直写技术 | 第16-18页 |
| 1.2.6 三维投影光刻技术 | 第18-19页 |
| 1.2.7 曲面微透镜阵列制作的技术对比 | 第19-20页 |
| 1.3 论文的内容安排 | 第20-22页 |
| 第二章 数字掩模光刻技术制作曲面微透镜阵列研究 | 第22-30页 |
| 2.1 数字掩模光刻技术制作曲面微透镜阵列的机理 | 第22-25页 |
| 2.1.1 数字掩模光刻技术 | 第22-24页 |
| 2.1.2 曝光原理 | 第24-25页 |
| 2.2 数字掩模设计算法及受限分析 | 第25-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 逐点优化设计曲面微透镜阵列数字掩模研究 | 第30-49页 |
| 3.1 逐点优化数字掩模机理 | 第30-32页 |
| 3.2 逐点优化设计曲面微透镜阵列数字掩模 | 第32-37页 |
| 3.3 逐点优化设计数字掩模制作曲面微透镜阵列的系统及实验 | 第37-48页 |
| 3.3.1 曲面微透镜阵列数字掩模光刻系统 | 第37-41页 |
| 3.3.2 数字掩模光刻技术制作曲面微透镜阵列的工艺流程 | 第41-47页 |
| 3.3.3 曲面微透镜阵列实验制作结果 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 曲面微透镜阵列数字掩模曲面拼接方法研究 | 第49-66页 |
| 4.1 数字掩模光刻技术制作曲面微透镜阵列的面积受限分析 | 第49-50页 |
| 4.2 曲面微透镜阵列数字掩模曲面拼接算法 | 第50-56页 |
| 4.2.1 纵向切割拆分结构数字掩模设计算法 | 第50-52页 |
| 4.2.2 曲面微透镜阵列正交四分式曲面拼接数字掩模设计 | 第52-54页 |
| 4.2.3 曲面微透镜阵列的数字掩模拼接优化 | 第54-56页 |
| 4.3 曲面微透镜阵列数字掩模曲面拼接曝光原理 | 第56-58页 |
| 4.4 曲面微透镜阵列数字掩模拼接实验 | 第58-65页 |
| 4.4.1 数字掩模曲面拼接曝光系统 | 第58-59页 |
| 4.4.2 曲面微透镜阵列数字掩模拼接实验 | 第59-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 5.2 研究展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间参加科研情况说明 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
