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铁电存储器的辐射效应及其抗辐射加固技术研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第12-28页
    1.1 课题研究背景与意义第12-23页
        1.1.1 应用需求第12-13页
        1.1.2 空间辐射环境第13-15页
        1.1.3 辐射效应第15-18页
            1.1.3.1 总剂量效应第15-17页
            1.1.3.2 单粒子效应第17-18页
            1.1.3.3 位移损伤第18页
        1.1.4 铁电存储器工作原理第18-22页
            1.1.4.1 存储原理第18-20页
            1.1.4.2 存储单元结构与读写方式第20-22页
        1.1.5 铁电存储器的辐射效应第22-23页
        1.1.6 抗辐射加固设计第23页
    1.2 国内外研究进展第23-26页
        1.2.1 铁电存储器辐射效应的研究进展第23-25页
        1.2.2 抗辐射铁电存储器的研究进展第25-26页
    1.3 论文的创新及内容安排第26-28页
        1.3.1 主要贡献与创新第26页
        1.3.2 论文内容安排第26-28页
第二章 铁电存储器总剂量效应试验及测试技术研究第28-44页
    2.1 总剂量效应试验方法研究第28-31页
        2.1.1 总剂量效应试验的主要地面模拟源第29-30页
        2.1.2 试验系统及方法第30-31页
    2.2 铁电存储器测试系统设计第31-35页
        2.2.1 硬件系统第31页
        2.2.2 独立写/读测试程序第31-33页
        2.2.3 基于March C-算法的测试程序第33-35页
    2.3 铁电存储器~(60)Co γ 射线总剂量效应试验研究第35-43页
        2.3.1 试验环境与测试方法第35-36页
        2.3.2 试验结果与讨论第36-43页
            2.3.2.1 FM22L16试验结果第36-37页
            2.3.2.2 FM28V100和MB85R1001试验结果第37-38页
            2.3.2.3 FM28V020和MB85R256H试验结果第38-39页
            2.3.2.4 FM24C64和FM24CL64试验结果第39-40页
            2.3.2.5 FM24C16和FM24CL16试验结果第40-41页
            2.3.2.6 几种铁电存储器总剂量效应对比第41-43页
    2.4 本章小结第43-44页
第三章X射线微束辐射试验与总剂量失效分析第44-57页
    3.1 X射线微束辐射试验平台与测试方法第44-46页
        3.1.1 X射线微束辐射装置第44-45页
        3.1.2 测试方法第45-46页
    3.2 测试结果第46-50页
        3.2.1 存储阵列第46-47页
        3.2.2 灵敏放大器第47页
        3.2.3 列译码电路第47-49页
        3.2.4 行译码电路第49页
        3.2.5 I/O接口电路第49-50页
    3.3 失效分析第50-54页
        3.3.1 存储阵列第50-53页
        3.3.2 外围电路模块第53-54页
    3.4 微束X射线和60Co γ 射线总剂量效应的对比研究第54-55页
    3.5 本章小结第55-57页
第四章 铁电存储器重离子单粒子效应试验研究第57-67页
    4.1 单粒子效应试验方法研究第57-59页
        4.1.1 重离子加速器试验第57-58页
        4.1.2 质子加速器试验第58-59页
        4.1.3 脉冲激光试验第59页
        4.1.4 ~(252)Cf源试验第59页
    4.2 铁电存储器重离子单粒子效应试验第59-66页
        4.2.1 试验环境与方法第60-62页
        4.2.2 单粒子翻转截面与Weibull曲线拟合第62-63页
        4.2.3 重离子单粒子效应试验结果与讨论第63-66页
    4.3 本章小结第66-67页
第五章 铁电存储单元单粒子效应仿真研究第67-83页
    5.1 铁电存储单元单粒子效应器件仿真研究第67-77页
        5.1.1 单粒子入射点和入射角度的影响第68-71页
        5.1.2 入射粒子LET值的影响第71-73页
        5.1.3 铁电电容面积的影响第73-74页
        5.1.4 矫顽电场的影响第74-77页
    5.2 铁电存储单元的单粒子效应对位线读出信号的影响第77-81页
        5.2.1 单粒子瞬态脉冲模型注入第77-79页
        5.2.2 仿真结果与讨论第79-81页
    5.3 本章小结第81-83页
第六章 铁电存储器抗辐射加固设计研究第83-98页
    6.1 抗辐射加固技术概述第83-86页
        6.1.1 材料及工艺加固技术第83-84页
        6.1.2 RHBD技术第84-86页
            6.1.2.1 电路及系统加固设计第84-85页
            6.1.2.2 版图加固设计第85-86页
    6.2 抗总剂量加固设计研究第86-90页
        6.2.1 环形栅NMOS晶体管辐射效应研究第86-87页
        6.2.2 灵敏放大器抗总剂量加固设计研究第87-90页
    6.3 旁路晶体管抗SEU性能研究第90-92页
    6.4 抗辐射铁电存储器设计第92-97页
        6.4.1 电路设计第92-95页
        6.4.2 版图设计第95-97页
    6.5 本章小结第97-98页
第七章 结论与展望第98-101页
    7.1 全文总结第98-99页
    7.2 工作展望第99-101页
致谢第101-102页
参考文献第102-109页
攻读博士学位期间取得的成果第109-110页

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