纳米周期金自支撑透射光栅及其微纳嵌套压印模板的制备工艺研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 金透射自支撑光栅概述 | 第12-14页 |
| 1.3 自支撑光栅国内外的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 软X射线金属透射光栅衍射效率的理论模拟 | 第15-18页 |
| 1.5 本文的研究意义及内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-23页 |
| 第二章 纳米压印技术制备高分子光栅图案 | 第23-41页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 纳米压印技术 | 第23-28页 |
| 2.2.1 纳米压印概述 | 第23-25页 |
| 2.2.2 纳米压印的现状与前景 | 第25-26页 |
| 2.2.3 纳米压印设备 | 第26-27页 |
| 2.2.4 双层胶纳米压印工艺 | 第27-28页 |
| 2.3 刻蚀工艺 | 第28-31页 |
| 2.3.1 湿法刻蚀和干法刻蚀 | 第28-29页 |
| 2.3.2 ICP刻蚀介绍 | 第29-31页 |
| 2.4 实验过程 | 第31-32页 |
| 2.4.1 实验材料和设备 | 第31-32页 |
| 2.4.2 实验步骤 | 第32页 |
| 2.5 实验结果与讨论 | 第32-38页 |
| 2.6 小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 金属光栅及支撑结构的制备 | 第41-50页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 工艺介绍 | 第41-44页 |
| 3.2.1 金的化学电镀工艺 | 第41-42页 |
| 3.2.2 光刻工艺 | 第42-44页 |
| 3.3 实验过程 | 第44-46页 |
| 3.3.1 实验材料与仪器 | 第44-45页 |
| 3.3.2 实验步骤 | 第45-46页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第46-48页 |
| 3.5 小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 自支撑光栅微纳嵌套模板的制备 | 第50-59页 |
| 4.1 引言 | 第50-51页 |
| 4.2 实验过程 | 第51-52页 |
| 4.2.1 实验材料与仪器 | 第51页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第51-52页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第52-53页 |
| 4.4 利用嵌套模板制备自支撑光栅 | 第53-57页 |
| 4.5 小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 100微米倒金字塔结构模板的制备与压印 | 第59-68页 |
| 5.1 引言 | 第59-60页 |
| 5.2 实验过程 | 第60-61页 |
| 5.2.1 实验材料与仪器 | 第60页 |
| 5.2.2 实验过程 | 第60-61页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第61-62页 |
| 5.4 倒金字塔模板的压印研究 | 第62-65页 |
| 5.5 小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第六章 结论 | 第68-70页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
