自由曲面灰度掩膜设计及微针工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 三维微结构制作方法的研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2 灰度光刻技术发展现状概述 | 第12-16页 |
| 1.3 微针制作技术发展现状概述 | 第16-18页 |
| 1.3.1 微针及其分类 | 第16页 |
| 1.3.2 微针制作工艺 | 第16-17页 |
| 1.3.3 背面曝光微针成型工艺研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 课题的研究内容 | 第18-20页 |
| 2 自由曲面灰度掩膜设计方法 | 第20-26页 |
| 2.1 灰度编码原理 | 第20-21页 |
| 2.2 设计思想 | 第21-22页 |
| 2.3 设计方法实现过程 | 第22-25页 |
| 2.3.1 目标曲面设计及非线性校正的方法 | 第22-23页 |
| 2.3.2 利用刀路模拟获得目标曲面模型的特征点 | 第23页 |
| 2.3.3 自由曲面灰度掩膜图的改进铺路法 | 第23-24页 |
| 2.3.4 灰度掩膜振幅调制编码方案 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 自由曲面灰度掩膜图程序设计 | 第26-30页 |
| 3.1 开发平台及开发环境的选取 | 第26页 |
| 3.2 系统的关键功能模块设计 | 第26-27页 |
| 3.3 用户界面设计 | 第27-29页 |
| 3.3.1 界面设计目的 | 第27-28页 |
| 3.3.2 自由曲面灰度掩膜设计系统界面 | 第28-29页 |
| 3.3.3 系统参数及运行情况说明 | 第29页 |
| 3.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 4 灰度掩膜图设计实例 | 第30-34页 |
| 4.1 算例及相关参数 | 第30-32页 |
| 4.2 算例误差计算 | 第32页 |
| 4.3 算例分析及评价 | 第32-33页 |
| 4.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 5 背面曝光微针成型工艺原理 | 第34-44页 |
| 5.1 圆孔衍射仿真及分析 | 第34-41页 |
| 5.1.1 标量衍射的角谱理论 | 第34-36页 |
| 5.1.2 建模仿真 | 第36-38页 |
| 5.1.3 衍射仿真结果及分析 | 第38-41页 |
| 5.2 微针制作原理 | 第41-43页 |
| 5.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 6 微针制作 | 第44-57页 |
| 6.1 实验材料及设备 | 第44-46页 |
| 6.1.1 掩膜板设计 | 第44-45页 |
| 6.1.2 基底材质选择 | 第45-46页 |
| 6.1.3 其它实验材料及设备 | 第46页 |
| 6.2 微针工艺流程 | 第46-50页 |
| 6.2.1 实验方案确定 | 第46-48页 |
| 6.2.2 工艺流程及实验方案 | 第48-50页 |
| 6.3 微针制作实例及分析 | 第50-56页 |
| 6.3.1 微针制作实例及分析 | 第50-52页 |
| 6.3.2 微针制作中遇到的问题及分析 | 第52-55页 |
| 6.3.3 微针制作工艺总结 | 第55-56页 |
| 6.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
