| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 相转变存储材料简介 | 第10-12页 |
| 1.2.1 相变存储材料的应用——相转变存储器（PCRAM） | 第10-12页 |
| 1.2.2 相转变材料的工作原理 | 第12页 |
| 1.3 相变存储材料中锗前驱体的研究 | 第12-14页 |
| 1.3.1 Ge在相变过程中的作用 | 第12-14页 |
| 1.4 前驱体研究进展 | 第14-22页 |
| 1.4.1 国外研究进展 | 第14-16页 |
| 1.4.2 国内研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4.3 研究方法与表征手段 | 第17-21页 |
| 1.4.4 前驱体制备薄膜的方法及要求 | 第21-22页 |
| 1.5 本论文的工作 | 第22-26页 |
| 1.5.1 本论文的研究思路 | 第22-23页 |
| 1.5.2 本论文的研究方法 | 第23-24页 |
| 1.5.3 本论文的研究内容 | 第24页 |
| 1.5.4 本论文的创新点 | 第24-26页 |
| 第二章 嘧啶基锗配合物的合成及性能研究 | 第26-44页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-29页 |
| 2.2.1 试剂和实验仪器 | 第27页 |
| 2.2.2 氨基嘧啶衍生物的合成 | 第27-28页 |
| 2.2.3 氨基嘧啶衍生物与金属锗配位化合物的合成与表征 | 第28-29页 |
| 2.2.4 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第29页 |
| 2.2.5 化合物7膜的制备及表征 | 第29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-37页 |
| 2.3.1 合成与表征 | 第29-31页 |
| 2.3.2 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第31-33页 |
| 2.3.3 化合物成膜性质与表征 | 第33-37页 |
| 2.4 几何结构优化与理论计算 | 第37-42页 |
| 2.4.1 化合物几何结构优化 | 第37-39页 |
| 2.4.2 化合物电荷分布和电子密度分析 | 第39-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第三章 吡唑基锗配合物的合成及性能研究 | 第44-58页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-46页 |
| 3.2.1 试剂和实验仪器 | 第45页 |
| 3.2.2 2 吡唑衍生物与金属锗配位化合物的合成与表征 | 第45-46页 |
| 3.2.3 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-52页 |
| 3.3.1 合成与表征 | 第46-49页 |
| 3.3.2 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第49-51页 |
| 3.3.3 化合物膜的性质及表征 | 第51-52页 |
| 3.4 几何结构优化与理论计算 | 第52-56页 |
| 3.4.1 化合物几何结构优化 | 第52-54页 |
| 3.4.2 化合物电荷分布和电子密度分析 | 第54-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 β-亚胺基锗配合物的合成及性能研究 | 第58-73页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.1 实验部分 | 第58-62页 |
| 4.1.1 试剂和实验仪器 | 第58-59页 |
| 4.1.2 亚胺配体与金属锗配位化合物的合成与表征 | 第59-61页 |
| 4.1.3 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第61页 |
| 4.1.4 化合物膜的制备 | 第61-62页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第62-65页 |
| 4.2.1 合成与表征 | 第62页 |
| 4.2.2 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第62-64页 |
| 4.2.3 化合物膜的性质及表征 | 第64-65页 |
| 4.3 几何结构优化与理论计算 | 第65-71页 |
| 4.3.1 化合物几何结构优化 | 第65-68页 |
| 4.3.2 化合物电荷分布及电子密度分析 | 第68-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 仲胺基锗配合物的合成及性能研究 | 第73-98页 |
| 5.0 引言 | 第73-74页 |
| 5.1 实验部分 | 第74-78页 |
| 5.1.1 试剂和实验仪器 | 第74页 |
| 5.1.2 仲胺配体与金属锗配位化合物的合成与表征 | 第74-77页 |
| 5.1.3 化合物热学性质（TGA）表征 | 第77页 |
| 5.1.4 化合物膜的制备 | 第77-78页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第78-86页 |
| 5.2.1 合成与表征 | 第78-79页 |
| 5.2.2 化合物热学性质（TGA）表征以及恒温测试 | 第79-81页 |
| 5.2.3 化合物膜的性质及表征 | 第81-86页 |
| 5.3 几何结构优化与理论计算 | 第86-96页 |
| 5.3.1 化合物几何结构优化 | 第86-90页 |
| 5.3.2 化合物电荷分布及电子密度分析 | 第90-96页 |
| 5.4 本章小结 | 第96-98页 |
| 第六章 全文结论与工作展望 | 第98-101页 |
| 6.1 配位方式与热学性能之间的关系总结 | 第98-99页 |
| 6.1.1 环状化合物之间的对比 | 第98-99页 |
| 6.1.2 非环状化合物与环状化合物之间的对比 | 第99页 |
| 6.2 官能团与热学性能之间的关系总结 | 第99-100页 |
| 6.3 工作展望 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-110页 |
| 致谢 | 第110-111页 |
| 博士期间发表论文 | 第111-112页 |
| 附图 | 第112-131页 |
