摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 废水中酚类污染物的危害与治理 | 第12页 |
1.2 半导体光催化简介 | 第12-15页 |
1.3 影响半导体光催化性能的因素 | 第15-17页 |
1.3.1 能带位置 | 第15-16页 |
1.3.2 晶体结构 | 第16页 |
1.3.3 晶粒尺寸 | 第16页 |
1.3.4 形貌 | 第16-17页 |
1.4 提升半导体光催化性能的方法 | 第17-19页 |
1.4.1 半导体复合 | 第17-18页 |
1.4.2 贵金属负载 | 第18页 |
1.4.3 离子掺杂 | 第18-19页 |
1.5 WO_3在光催化降解领域的应用 | 第19-21页 |
1.5.1 WO_3光催化降解有机污染物 | 第19-20页 |
1.5.2 WO_3光催化降解中存在的不足 | 第20-21页 |
1.6 本论文的选题意义及研究内容 | 第21-22页 |
1.6.1 选题意义 | 第21页 |
1.6.2 研究内容 | 第21-22页 |
第二章 实验部分 | 第22-27页 |
2.1 化学试剂和仪器 | 第22-23页 |
2.1.1 化学试剂 | 第22页 |
2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
2.2 分析表征手段 | 第23-24页 |
2.3 光催化剂降解性能评价 | 第24-25页 |
2.3.1 有机降解物的选择 | 第24页 |
2.3.2 光催化反应装置 | 第24-25页 |
2.3.3 光催化实验 | 第25页 |
2.3.4 模型污染物的分析 | 第25页 |
2.4 光催化机理的探究 | 第25-26页 |
2.5 光电化学性能评价 | 第26-27页 |
第三章 WO_3在H_2O_2存在下可见光降解苯酚性能的研究 | 第27-44页 |
3.1 前言 | 第27页 |
3.2 样品制备 | 第27-28页 |
3.2.1 WO_3的制备 | 第27-28页 |
3.3 结果与讨论 | 第28-40页 |
3.3.1 催化剂的表征 | 第28-33页 |
3.3.2 WO_3可见光降解苯酚 | 第33-35页 |
3.3.3 WO_3光降解苯酚条件优化 | 第35-40页 |
3.4 光降解机理的探究 | 第40-43页 |
3.4.1 光催化降解苯酚过程中活性自由基的作用 | 第40-41页 |
3.4.2 溶解氧对光催化降解苯酚的影响 | 第41-42页 |
3.4.3 光催化降解苯酚机理推测 | 第42-43页 |
3.5 小结 | 第43-44页 |
第四章 Mo掺杂WO_3的制备及光降解性能的研究 | 第44-60页 |
4.1 前言 | 第44页 |
4.2 催化剂的制备 | 第44-45页 |
4.3 结果与讨论 | 第45-55页 |
4.3.1 样品的表征 | 第45-50页 |
4.3.2 Mo掺杂WO_3光降解性能研究 | 第50-53页 |
4.3.3 光催化剂的稳定性 | 第53-54页 |
4.3.4 光催化降解苯酚及对氯苯酚的反应动力学研究 | 第54-55页 |
4.4 光催化降解机理 | 第55-59页 |
4.4.1 光催化降解对氯苯酚过程中活性自由基的作用 | 第56页 |
4.4.2 溶解氧对光催化降解对氯苯酚的影响 | 第56-57页 |
4.4.3 光催化降解对氯苯酚机理推测 | 第57页 |
4.4.4 光电化学性能测试 | 第57-59页 |
4.5 小结 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-67页 |
结论 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |