致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第13-22页 |
1.1 砷的来源和危害 | 第13页 |
1.2 除砷方法概述 | 第13-20页 |
1.2.1 普通除砷法 | 第14-18页 |
1.2.1.1 沉淀法 | 第14-15页 |
1.2.1.2 离子交换法 | 第15页 |
1.2.1.3 吸附法 | 第15-16页 |
1.2.1.4 膜分离法 | 第16-17页 |
1.2.1.5 生物法 | 第17-18页 |
1.2.2 氧化除砷法 | 第18-20页 |
1.2.1.1 预氧化吸附法 | 第18-19页 |
1.2.1.2 光催化氧化吸附法 | 第19-20页 |
1.3 论文的提出与研究内容 | 第20-22页 |
1.3.1 论文的提出 | 第20-22页 |
第2章 FeOCN-x的合成、表征及其光催化氧化除砷性能的研究 | 第22-40页 |
2.1 前言 | 第22页 |
2.2 实验部分 | 第22-27页 |
2.2.1 主要试剂与仪器 | 第22-24页 |
2.2.2 g-C_3N_4,Fe_3O_4以及FeOCN-x的制备 | 第24-25页 |
2.2.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第24页 |
2.2.2.2 Fe_3O_4的制备 | 第24页 |
2.2.2.3 FeOCN-x的制备 | 第24-25页 |
2.2.3 FeOCN-x的表征 | 第25-26页 |
2.2.4 光催化性能研究 | 第26页 |
2.2.5 FeOCN-x对As(Ⅲ)的光催化氧化吸附性能研究 | 第26-27页 |
2.2.5.1 光催化氧化吸附动力学 | 第26页 |
2.2.5.2 pH对光催化氧化吸附的影响 | 第26页 |
2.2.5.3 光催化氧化吸附热力学 | 第26-27页 |
2.2.5.4 干扰离子对光催化氧化吸附的影响 | 第27页 |
2.2.5.5 光催化氧化机理的研究 | 第27页 |
2.2.5.6 重复利用性能的研究 | 第27页 |
2.3 结果与讨论 | 第27-39页 |
2.3.1 g-C_3N_4,Fe_3O_4,FeOCN-x的表征 | 第27-31页 |
2.3.1.1 XRD表征 | 第27-28页 |
2.3.1.2 透射电镜表征 | 第28-29页 |
2.3.1.3 紫外可见吸收光谱表征 | 第29页 |
2.3.1.4 比表面积表征 | 第29-30页 |
2.3.1.5 磁滞回线表征 | 第30-31页 |
2.3.2 光催化氧化吸附实验 | 第31-39页 |
2.3.2.1 As(Ⅲ)光催化氧化吸附动力学实验 | 第31-33页 |
2.3.2.2 pH对光催化氧化吸附的影响 | 第33-34页 |
2.3.2.3 As(Ⅲ)初始浓度对光催化氧化吸附的影响 | 第34-35页 |
2.3.2.4 干扰离子对光催化氧化吸附的影响 | 第35-36页 |
2.3.2.5 光催化氧化机理的研究 | 第36-38页 |
2.3.2.6 重复使用性能的研究 | 第38-39页 |
2.4 本章小结 | 第39-40页 |
第3章 一锅法合成 α-FeOCN-x及其表征和光催化氧化除砷性能的研究 | 第40-56页 |
3.1 前言 | 第40页 |
3.2 实验部分 | 第40-43页 |
3.2.1 主要试剂与仪器 | 第40页 |
3.2.2 g-C_3N_4,α-Fe_2O_3以及 α-FeOCN-x的制备 | 第40-41页 |
3.2.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第40页 |
3.2.2.2 α-Fe_2O_3的制备 | 第40-41页 |
3.2.2.3 α-FeOCN-x的制备 | 第41页 |
3.2.3 α-FeOCN-x的表征 | 第41页 |
3.2.4 光催化性能研究 | 第41页 |
3.2.5 α-FeOCN-x对As(Ⅲ)光催化氧化吸附性能研究 | 第41-43页 |
3.2.5.1 光催化氧化吸附动力学 | 第41页 |
3.2.5.2 pH对光催化氧化吸附的影响 | 第41-42页 |
3.2.5.3 As(Ⅲ)初始浓度对光催化氧化吸附的影响 | 第42页 |
3.2.5.4 干扰离子对光催化氧化吸附的影响 | 第42页 |
3.2.5.5 光催化氧化机理的研究 | 第42页 |
3.2.5.6 重复利用性能的研究 | 第42-43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-55页 |
3.3.1 纯的g-C_3N_4,纯的 α-Fe_2O_3以及 α-FeOCN-x复合材料的表征 | 第43-46页 |
3.3.1.1 XRD表征 | 第43页 |
3.3.1.2 透射电镜表征 | 第43-44页 |
3.3.1.3 紫外可见吸收光谱表征 | 第44-45页 |
3.3.1.4 比表面积表征 | 第45-46页 |
3.3.1.5 XPS表征 | 第46页 |
3.3.2 光催化氧化吸附实验 | 第46-55页 |
3.3.2.1 As(Ⅲ)光催化氧化吸附动力学实验 | 第46-49页 |
3.3.2.2 pH对光催化氧化吸附的影响 | 第49页 |
3.3.2.3 As(Ⅲ)初始浓度对光催化氧化吸附的影响 | 第49-51页 |
3.3.2.4 干扰离子对吸附的影响 | 第51页 |
3.3.2.5 光催化氧化机理的研究 | 第51-53页 |
3.3.2.6 重复使用性能的研究 | 第53-55页 |
3.4 本章小结 | 第55-56页 |
第4章 结语 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-69页 |
作者简历 | 第69页 |