| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第16-39页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 金属纳米线导电薄膜制备工艺 | 第17-28页 |
| 1.2.1 纳米墨水的制备 | 第17-19页 |
| 1.2.2 纳米材料涂布 | 第19-23页 |
| 1.2.3 纳米线导电薄膜制备 | 第23-28页 |
| 1.3 铜纳米线导电薄膜研究现状 | 第28-34页 |
| 1.3.1 烧结法 | 第29-31页 |
| 1.3.2 酸洗法 | 第31页 |
| 1.3.3 激光烧结法 | 第31-33页 |
| 1.3.4 可拉伸导电薄膜制备方法 | 第33-34页 |
| 1.4 纳米线导电薄膜的应用 | 第34-38页 |
| 1.4.1 触摸屏 | 第34-35页 |
| 1.4.2 太阳能电池 | 第35页 |
| 1.4.3 发光二极管 | 第35页 |
| 1.4.4 传感器 | 第35-36页 |
| 1.4.5 加热器 | 第36页 |
| 1.4.6 其他应用 | 第36-38页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第38-39页 |
| 第2章 试验材料与研究方法 | 第39-46页 |
| 2.1 试验用试剂 | 第39-40页 |
| 2.2 铜纳米线合成方法 | 第40页 |
| 2.3 导电薄膜光烧结制备工艺 | 第40-41页 |
| 2.4 分析表征以及性能测试 | 第41-43页 |
| 2.4.1 物相表征 | 第41页 |
| 2.4.2 形貌和结构分析 | 第41-42页 |
| 2.4.3 光学和电学性能测试 | 第42页 |
| 2.4.4 热力学性能分析 | 第42页 |
| 2.4.5 机械性能测试 | 第42-43页 |
| 2.5 铜纳米线导电薄膜的应用 | 第43-46页 |
| 2.5.1 在传感中的应用 | 第43-44页 |
| 2.5.2 在加热器中的应用 | 第44-46页 |
| 第3章 水热法合成铜纳米线及其生长机制研究 | 第46-63页 |
| 3.1 铜纳米线的合成及表征 | 第46-49页 |
| 3.1.1 铜纳米线的形貌和物相分析 | 第46-47页 |
| 3.1.2 铜纳米线微观结构 | 第47-49页 |
| 3.2 胺类分子量对铜纳米线形貌的影响 | 第49-52页 |
| 3.2.1 长碳链胺类合成铜纳米线形貌 | 第49-51页 |
| 3.2.2 短碳链胺类合成铜纳米线形貌 | 第51-52页 |
| 3.3 铜纳米线生长机制分析 | 第52-56页 |
| 3.4 铜纳米线氧化行为分析 | 第56-57页 |
| 3.5 铜纳米线烧结特性 | 第57-61页 |
| 3.5.1 铜纳米线的热力学曲线 | 第57-58页 |
| 3.5.2 铜纳米线烧结微观结构 | 第58-61页 |
| 3.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 第4章 铜纳米线透明导电薄膜光烧结法制备及机制研究 | 第63-91页 |
| 4.1 铜纳米线透明导电薄膜微观结构分析 | 第63-67页 |
| 4.1.1 铜纳米线透明导电薄膜形貌 | 第64-66页 |
| 4.1.2 铜纳米线连接点的微观结构 | 第66-67页 |
| 4.2 铜纳米线透明导电薄膜光学和电学性能研究 | 第67-71页 |
| 4.2.1 铜纳米线透明导电薄膜电性能 | 第67-68页 |
| 4.2.2 铜纳米线透明导电薄膜光学性能 | 第68-70页 |
| 4.2.3 光烧结法与其他方法的比较 | 第70-71页 |
| 4.3 铜纳米线网络在光烧结过程中的产热分析 | 第71-77页 |
| 4.3.1 铜纳米线网络表面温度计算 | 第72-74页 |
| 4.3.2 光照能量对铜纳米线透明导电薄膜性能的影响 | 第74页 |
| 4.3.3 光照条件下铜纳米线中能量分布计算 | 第74-77页 |
| 4.4 光烧结对铜纳米线的去氧化物作用分析 | 第77-82页 |
| 4.4.1 光烧结之后铜纳米线的微观结构 | 第78-79页 |
| 4.4.2 光烧结法制备Cu/Cu_2O纳米线透明导电薄膜 | 第79-81页 |
| 4.4.3 光烧结去氧化机制分析 | 第81-82页 |
| 4.5 光烧结制备铜纳米线透明导电薄膜机制分析 | 第82-83页 |
| 4.6 在柔性PET基板上制备铜纳米线透明导电薄膜 | 第83-89页 |
| 4.6.1 PET基板上铜纳米线透明导电薄膜形貌和性能 | 第83-88页 |
| 4.6.2 PET基板的热力学性能对铜纳米线透明导电薄膜光性能的影响 | 第88-89页 |
| 4.7 本章小结 | 第89-91页 |
| 第5章 铜纳米线可拉伸导电薄膜制备及其性能研究 | 第91-114页 |
| 5.1 铜纳米线可拉伸导电薄膜制备流程 | 第91-92页 |
| 5.2 CuNW/PU可拉伸导电薄膜形貌与光学和电学性能研究 | 第92-96页 |
| 5.2.1 CuNW/PU导电薄膜形貌 | 第92-94页 |
| 5.2.2 加热法与光烧结法比较 | 第94-95页 |
| 5.2.3 CuNW/PU导电薄膜光学和电学性能 | 第95-96页 |
| 5.3 CuNW/PU导电薄膜机械性能研究 | 第96-101页 |
| 5.3.1 铜纳米线/PU导电薄膜弯曲性能 | 第96-97页 |
| 5.3.2 铜纳米线/PU导电薄膜单次拉伸过程中电性能 | 第97-99页 |
| 5.3.3 铜纳米线/PU导电薄膜循环拉伸过程中电性能 | 第99-101页 |
| 5.4 光照能量对CuNW/PU导电薄膜拉伸性能的影响 | 第101-104页 |
| 5.4.1 光照能量对CuNW/PU导电薄膜拉伸性能的影响 | 第101-102页 |
| 5.4.2 光照能量对CuNW/PU导电薄膜形貌的影响 | 第102-104页 |
| 5.5 光烧结制备可拉伸CuNW/PU导电薄膜的机制分析 | 第104-105页 |
| 5.6 CuNW/PDMS导电薄膜的拉伸性能研究 | 第105-112页 |
| 5.6.1 CuNW/PDMS导电薄膜的形貌 | 第105-107页 |
| 5.6.2 CuNW/PDMS导电薄膜的光学和电学性能 | 第107-108页 |
| 5.6.3 CuNW/PDMS导电薄膜的拉伸性能 | 第108-109页 |
| 5.6.4 CuNW/PDMS导电薄膜拉伸性能的改善 | 第109-112页 |
| 5.7 本章小结 | 第112-114页 |
| 第6章 铜纳米线导电薄膜在可穿戴电子器件中的应用 | 第114-123页 |
| 6.1 CuNW/PU导电薄膜在应力传感中的应用 | 第114-116页 |
| 6.1.1 CuNW/PU导电薄膜探测手势中的应用 | 第114-115页 |
| 6.1.2 CuNW/PU导电薄膜表征摩斯密码 | 第115-116页 |
| 6.2 CuNW/PU导电薄膜在可穿戴加热器中的应用 | 第116-121页 |
| 6.2.1 CuNW/PU导电薄膜加热性能 | 第116-117页 |
| 6.2.2 CuNW/PU导电薄膜循环加热性能 | 第117-118页 |
| 6.2.3 图案化的CuNW/PU导电薄膜制备及其加热性能测试 | 第118-120页 |
| 6.2.4 CuNW/PU导电薄膜在加热手套中的应用 | 第120-121页 |
| 6.3 本章小结 | 第121-123页 |
| 结论 | 第123-126页 |
| 参考文献 | 第126-137页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第137-140页 |
| 致谢 | 第140-141页 |
| 个人简历 | 第141页 |
