二次型光机耦合的暗态构造和量子多体模拟
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 研究背景介绍 | 第11-35页 |
| 1.1 光辐射压力的历史 | 第11-16页 |
| 1.2 光机振子与冷却 | 第16-27页 |
| 1.3 二次型光机耦合振子理论和实验现状 | 第27-30页 |
| 1.4 光机振子在量子信息和量子计算中的应用 | 第30-32页 |
| 1.5 多模式的光机系统 | 第32-33页 |
| 1.6 本章小结 | 第33-35页 |
| 第2章 光机系统中的非线性暗态 | 第35-59页 |
| 2.1 三能级原子中的暗态 | 第35-36页 |
| 2.2 二次型光机耦合和原子团的模型 | 第36-44页 |
| 2.2.1 薄膜与腔场耦合 | 第37-38页 |
| 2.2.2 原子团与腔场耦合 | 第38-40页 |
| 2.2.3 系统有效哈密顿量 | 第40-41页 |
| 2.2.4 系统的暗态及其性质 | 第41-44页 |
| 2.3 受激拉曼绝热转移 | 第44-48页 |
| 2.4 系统的扩展和量子态制备 | 第48-50页 |
| 2.5 暗态的探测 | 第50-56页 |
| 2.5.1 单光子能谱 | 第50-53页 |
| 2.5.2 双EIT现象 | 第53-56页 |
| 2.6 本章小结 | 第56-59页 |
| 第3章 二次型光机振子中的一维链结构 | 第59-83页 |
| 3.1 Bose-Hubbard模型 | 第59-61页 |
| 3.2 二次型光机振子和微波腔组成的一维链 | 第61-68页 |
| 3.2.1 薄膜振子与光腔 | 第62-63页 |
| 3.2.2 薄膜与微波腔 | 第63页 |
| 3.2.3 有效哈密顿量 | 第63-68页 |
| 3.3 数值验证有效哈密顿量 | 第68-69页 |
| 3.4 高阶相互作用与相变 | 第69-80页 |
| 3.4.1 平均场方法 | 第71-75页 |
| 3.4.2 Gutzwiller方法 | 第75-78页 |
| 3.4.3 薄膜振子耗散不可忽略 | 第78-80页 |
| 3.5 本章小结 | 第80-83页 |
| 第4章 总结和展望 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
