| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 螺旋聚合物的发展过程 | 第11-13页 |
| 1.3 螺旋聚合物的分类 | 第13-15页 |
| 1.4 螺旋聚合物的合成方法 | 第15-16页 |
| 1.5 螺旋取代聚乙炔衍生物 | 第16-19页 |
| 1.5.1 螺旋取代聚乙炔的概述 | 第16-18页 |
| 1.5.2 取代聚乙炔螺旋结构的影响因素 | 第18-19页 |
| 1.6 螺旋聚合物的应用 | 第19-21页 |
| 1.6.1 手性识别 | 第19-20页 |
| 1.6.2 不对称催化 | 第20-21页 |
| 1.7 阴离子受体类型 | 第21-23页 |
| 1.7.1 含酰胺(磺酰胺)阴离子受体 | 第21-22页 |
| 1.7.2 含脲(硫脲)阴离子受体 | 第22-23页 |
| 1.8 选题意义和研究内容 | 第23-25页 |
| 1.8.1 选题意义 | 第23-24页 |
| 1.8.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 实验部分 | 第25-35页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第25-27页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第25-27页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第27页 |
| 2.2 实验方案 | 第27-29页 |
| 2.3 侧链含有酰胺基或脲基苯乙炔单体的合成 | 第29-31页 |
| 2.3.1 三种中间产物的合成 | 第29-30页 |
| 2.3.2 Sonogashira偶联反应及消去反应 | 第30-31页 |
| 2.3.3 含有酰胺基或脲基苯乙炔单体的合成 | 第31页 |
| 2.4 催化剂的合成 | 第31-32页 |
| 2.5 聚合反应 | 第32页 |
| 2.6 阴离子识别实验 | 第32页 |
| 2.7 实验表征手段及其方法 | 第32-33页 |
| 2.7.1 核磁共振波谱 | 第33页 |
| 2.7.2 红外光谱分析仪 | 第33页 |
| 2.7.3 圆二色光谱仪 | 第33页 |
| 2.7.4 旋光分析仪 | 第33页 |
| 2.7.5 紫外分光光度计 | 第33页 |
| 2.7.6 荧光分光光度计 | 第33页 |
| 2.8 本章小结 | 第33-35页 |
| 第3章 新型螺旋聚苯乙炔衍生物的合成及其表征 | 第35-47页 |
| 3.1 三种新型苯乙炔衍生物单体的合成及其表征 | 第35-40页 |
| 3.1.1 单体1的合成及其表征 | 第35-38页 |
| 3.1.2 单体2的合成及其表征 | 第38-39页 |
| 3.1.3 单体3的合成及其表征 | 第39-40页 |
| 3.2 三种新型聚苯乙炔衍生物的合成及其表征 | 第40-45页 |
| 3.2.1 新型聚苯乙炔衍生物的合成 | 第40-42页 |
| 3.2.2 新型聚苯乙炔衍生物的结构表征 | 第42-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 聚苯乙炔衍生物光学活性与阴离子识别性能研究 | 第47-73页 |
| 4.1 聚苯乙炔衍生物光学活性研究 | 第47-49页 |
| 4.1.1 聚苯乙炔衍生物的旋光性研究 | 第47-48页 |
| 4.1.2 聚苯乙炔衍生物的CD谱图研究 | 第48-49页 |
| 4.2 聚合物螺旋构象的影响因素 | 第49-52页 |
| 4.2.1 温度对聚合物螺旋构象的影响 | 第49-51页 |
| 4.2.2 极性溶剂对聚合物螺旋构象的影响 | 第51-52页 |
| 4.3 聚合物1阴离子识别性能研究 | 第52-61页 |
| 4.3.1 CD光谱 | 第53-55页 |
| 4.3.2 紫外-可见光谱 | 第55-58页 |
| 4.3.3 荧光光谱 | 第58-60页 |
| 4.3.4 阴离子检测试纸实验 | 第60-61页 |
| 4.4 聚合物2阴离子识别性能研究 | 第61-66页 |
| 4.4.1 CD光谱 | 第61-63页 |
| 4.4.2 紫外-可见光谱 | 第63-65页 |
| 4.4.3 核磁共振氢谱 | 第65-66页 |
| 4.5 聚合物3阴离子识别性能研究 | 第66-70页 |
| 4.5.1 CD光谱 | 第66-67页 |
| 4.5.2 紫外-可见光谱 | 第67-68页 |
| 4.5.3 荧光光谱 | 第68-70页 |
| 4.5.4 核磁共振氢谱 | 第70页 |
| 4.6 本章小结 | 第70-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 攻读硕士学位期间取得科研成果及发表的论文 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85页 |