| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-37页 |
| 1.1 背景 | 第11-13页 |
| 1.2 磁性材料中的能量和磁结构 | 第13-15页 |
| 1.3 磁场驱动DW运动 | 第15-17页 |
| 1.4 电流驱动DW运动 | 第17-20页 |
| 1.4.1 前言 | 第17页 |
| 1.4.2 Landau-Liftshitz-Gilbert方程 | 第17-18页 |
| 1.4.3 STT效应 | 第18-20页 |
| 1.4.4 电流驱动DW的问题 | 第20页 |
| 1.5 DW引起的磁电阻效应 | 第20-23页 |
| 1.6 赛道存储器(RM) | 第23-24页 |
| 1.7 纳米线中DW运动的随机现象 | 第24-29页 |
| 1.8 本论文的选题意义和内容 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-37页 |
| 第二章 实验流程和实验仪器 | 第37-55页 |
| 2.1 前言 | 第37页 |
| 2.2 制备流程 | 第37-38页 |
| 2.3 制备仪器 | 第38-46页 |
| 2.3.1 匀胶机 | 第38-39页 |
| 2.3.2 电子束曝光 | 第39-40页 |
| 2.3.3 紫外曝光 | 第40-42页 |
| 2.3.4 磁控溅射仪 | 第42-44页 |
| 2.3.5 电子束蒸发 | 第44-46页 |
| 2.4 测量仪器 | 第46-52页 |
| 2.4.1 聚焦磁光克尔效应(FMOKE)磁力计 | 第46-49页 |
| 2.4.2 磁力显微镜(MFM) | 第49-51页 |
| 2.4.3 输运测量 | 第51-52页 |
| 2.5 微磁学模拟(OOMMF) | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第三章 具有非对称凹槽的铁镍纳米线中畴壁的退钉扎行为 | 第55-73页 |
| 3.1 背景介绍 | 第55-56页 |
| 3.2 不同宽度的铁镍纳米线的制备、测量以及模拟的条件 | 第56-58页 |
| 3.3 实验和模拟结果的讨论 | 第58-70页 |
| 3.4 总结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 第四章 具有不同类型凹槽的铁镍纳米线中畴壁退钉扎的随机现象 | 第73-85页 |
| 4.1 背景介绍 | 第73-74页 |
| 4.2 具有不同类型凹槽的铁镍纳米线的制备与表征 | 第74-75页 |
| 4.3 FMOKE与MFM的数据对比与讨论 | 第75-81页 |
| 4.4 总结 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-85页 |
| 第五章 具有不同类型凹槽的铁镍纳米线中畴壁的磁电阻 | 第85-101页 |
| 5.1 背景介绍 | 第85-86页 |
| 5.2 铁镍纳米线的制备以及输运测量方式的介绍 | 第86-87页 |
| 5.3 具有不同类型凹槽的铁镍纳米线的纵向磁电阻效应 | 第87-96页 |
| 5.4 总结 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-101页 |
| 第六章 总结与展望 | 第101-105页 |
| 参考文献 | 第103-105页 |
| 博士期间发表论文以及待发表论文 | 第105-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |
