致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
目次 | 第10-12页 |
图清单 | 第12-14页 |
表清单 | 第14-15页 |
1 绪论 | 第15-30页 |
·研究背景及意义 | 第15页 |
·超材料技术与应用 | 第15-19页 |
·超材料简介 | 第15-16页 |
·超材料的电磁响应 | 第16-19页 |
·太赫兹超材料谐振器研究进展 | 第19-24页 |
·太赫兹超材料多频谐振器 | 第20-21页 |
·太赫兹类电磁诱导透明谐振器 | 第21-24页 |
·太赫兹超材料制备方法 | 第24-28页 |
·光刻技术制备太赫兹超材料 | 第24-26页 |
·喷墨打印技术制备太赫兹超材料 | 第26页 |
·激光直写技术制备太赫兹超材料 | 第26-27页 |
·激光转印技术制备太赫兹超材料 | 第27-28页 |
·论文章节安排 | 第28-30页 |
2 激光转印法超材料制备系统硬件设计 | 第30-38页 |
·引言 | 第30页 |
·系统设计原理与基本结构 | 第30-32页 |
·系统核心部件 DMD | 第32-34页 |
·硬件设计与性能分析 | 第34-37页 |
·光源 | 第34-35页 |
·扩束和光束整形 | 第35-36页 |
·数字微镜器件(DMD) | 第36页 |
·微缩成像系统 | 第36-37页 |
·小结 | 第37-38页 |
3 激光转印法超材料制备系统工艺研究 | 第38-45页 |
·引言 | 第38页 |
·导电浆料选择 | 第38-39页 |
·匀浆工艺分析 | 第39-41页 |
·匀浆工作原理 | 第39页 |
·银浆稀释对匀浆结果的影响 | 第39-40页 |
·匀浆工艺参数分析 | 第40-41页 |
·待加工单元制作 | 第41-42页 |
·样品制备步骤与结果分析 | 第42-44页 |
·样品制备步骤 | 第42页 |
·激光转印结果分析 | 第42-44页 |
·小结 | 第44-45页 |
4 一种基于非对称半环的太赫兹类 EIT 谐振器 | 第45-54页 |
·引言 | 第45页 |
·AHR 谐振器的设计与制备 | 第45-47页 |
·谐振器性能测试与分析 | 第47-49页 |
·表面电流分布分析 | 第49-50页 |
·数值模拟分析 | 第50-53页 |
·单半环变化数值模拟 | 第50-51页 |
·AHR 谐振器与结构参数的关系 | 第51-53页 |
·小结 | 第53-54页 |
5 一种基于 SRR 和金属线的太赫兹类 EIT 谐振器 | 第54-64页 |
·引言 | 第54页 |
·SR/CW 结构单元设计 | 第54-55页 |
·谐振器仿真分析 | 第55-60页 |
·类 EIT 透射特性 | 第55-57页 |
·类 EIT 谐振峰机理分析 | 第57-58页 |
·开口环相对位置变化对谐振特性的影响 | 第58-59页 |
·SR/CW 谐振器与结构参数的关系 | 第59-60页 |
·谐振器实验结果 | 第60-63页 |
·小结 | 第63-64页 |
6 总结与展望 | 第64-66页 |
·总结 | 第64-65页 |
·展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-71页 |
作者简介 | 第71页 |