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二维半导体纳米材料磁性掺杂与自旋调控的第一性原理研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-16页
   ·二维单原子层半导体材料简介第10-12页
   ·过渡金属掺杂二维纳米材料的研究进展及存在的问题第12-14页
   ·本论文的研究目的和内容第14-16页
第2章 理论方法简介第16-22页
   ·密度泛函理论简介第16-19页
     ·Born-Oppenheimer 绝热近似第16页
     ·Hohenberg-Kohn 定理第16页
     ·Kohn-Sham 方程第16-18页
     ·交换关联泛函第18-19页
   ·计算软件简介第19页
   ·DFT+U 方法及确定 Hubbard U 值的线性响应理论第19-21页
   ·AIM 理论简介第21-22页
第3章 过渡金属吸附石墨炔系统的 Hubbard U 值的确定第22-35页
   ·引言第22-23页
   ·计算方法与模型第23-24页
   ·计算结果与分析第24-33页
     ·过渡金属吸附石墨炔系统的 Hubbard U 值的确定第24-26页
     ·单个过渡金属吸附石墨炔的稳定性第26-27页
     ·单个过渡金属吸附石墨炔的电子结构和磁性性质第27-31页
     ·局域库伦相互作用对于过渡金属吸附属性的影响第31-33页
   ·本章小结第33-35页
第4章 3d 过渡金属在石墨炔表面有序的吸附及磁交换作用第35-48页
   ·引言第35页
   ·计算方法与模型第35-36页
   ·计算结果与讨论第36-47页
     ·过渡金属 dimer、Zigzag 和 Armchair 型纳米线在 GY 表面的结构和稳定性第36-38页
     ·Zigzag 和 Armchair 型过度金属链的磁交换耦合机制第38-42页
     ·Zigzag 和 Armchair 型过渡金属纳米线的磁各向异性第42-45页
     ·石墨炔表面有序的自旋排列第45-47页
   ·本章小结第47-48页
第5章 过渡金属掺杂单层氮化硼的自旋态的调控第48-58页
   ·引言第48-49页
   ·计算方法与模型第49页
   ·计算结果与讨论第49-56页
     ·局域库伦势对过渡金属掺杂氮化硼自旋态的影响第49-51页
     ·TM 掺杂二维 h-BN 体系的 Hubbard U 及其电子性质第51-53页
     ·氢氟原子化学修饰对过渡金属掺杂 BN 系统自旋态的调控第53-56页
   ·本章小结第56-58页
第6章 二维自旋极化反铁磁零磁矩半导体第58-67页
   ·引言第58-60页
   ·计算方法与模型第60页
   ·计算结果与讨论第60-65页
     ·Fe、Cr 原子共掺杂二维氮化硼的构型及其稳定性第60-62页
     ·零磁矩与自旋极化共存的起源第62-64页
     ·HSCAF 在其他二维材料中的实现和讨论第64-65页
   ·本章小结第65-67页
第7章 总结与展望第67-69页
   ·论文总结第67-68页
   ·工作展望第68-69页
参考文献第69-77页
致谢第77-78页
个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果第78页

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