紧固件陶瓷薄膜的制备及耐腐蚀性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·TiN薄膜的结构与性能 | 第11-13页 |
| ·TiN薄膜的结构 | 第11-12页 |
| ·TiN薄膜的基本特性 | 第12-13页 |
| ·TiN薄膜的研究现状 | 第13-14页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第14-15页 |
| 2 TiN薄膜的制备原理及实验方法 | 第15-27页 |
| ·薄膜的气相沉积技术 | 第15-19页 |
| ·薄膜气相沉积技术 | 第15-18页 |
| ·薄膜形成过程 | 第18-19页 |
| ·真空镀膜机 | 第19-20页 |
| ·薄膜表征实验仪器 | 第20-24页 |
| ·台阶仪 | 第20-21页 |
| ·显微硬度仪 | 第21页 |
| ·原子力显微镜 | 第21-22页 |
| ·X光电子能谱 | 第22页 |
| ·动电位极化测量 | 第22-24页 |
| ·实验方法 | 第24-25页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·实验研究的技术路线 | 第24页 |
| ·实验工艺参数 | 第24-25页 |
| ·TiN薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·基体材料的表面预处理 | 第25页 |
| ·TiN薄膜制备 | 第25-27页 |
| 3 三种方式制备TiN薄膜的对比研究 | 第27-32页 |
| ·实验工艺参数 | 第27-28页 |
| ·实验结果及讨论 | 第28-30页 |
| ·表面形貌的分析 | 第28-29页 |
| ·显微硬度的分析 | 第29页 |
| ·膜厚的分析 | 第29页 |
| ·耐腐蚀性能的分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 4 磁控多弧共溅射制备TiN薄膜的工艺参数优化 | 第32-46页 |
| ·负偏压对TiN薄膜性能的影响 | 第32-34页 |
| ·负偏压对TiN薄膜显微硬度的影响 | 第32-33页 |
| ·负偏压对TiN薄膜厚度的影响 | 第33-34页 |
| ·Ar/N_2流量之比对TiN薄膜性能的影响 | 第34-40页 |
| ·Ar/N_2流量之比对TiN薄膜物质成分的影响 | 第34-39页 |
| ·Ar/N_2流量之比对TiN薄膜显微硬度的影响 | 第39-40页 |
| ·工作气压对TiN薄膜性能的影响 | 第40-45页 |
| ·工作气压对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·工作气压对TiN薄膜显微硬度的影响 | 第42页 |
| ·工作气压对TiN薄膜膜厚的影响 | 第42-43页 |
| ·工作气压对TiN薄膜耐腐蚀性的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
