| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| ·PZT薄膜研究现状 | 第10-13页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜研究现状 | 第13-15页 |
| ·本文的研究意义与主要研究内容 | 第15-16页 |
| 2 PZT薄膜相关原理 | 第16-26页 |
| ·PZT晶体结构特性 | 第16-18页 |
| ·PZT薄膜主要制备方法 | 第18-24页 |
| ·溅射法制备PZT薄膜 | 第18-20页 |
| ·溶胶-凝胶法制备PZT薄膜 | 第20-21页 |
| ·其他制备方法 | 第21-24页 |
| ·PZT薄膜残余应力分析 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 3 磁控溅射法制备PZT薄膜性能分析 | 第26-41页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜 | 第26页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜表面形貌分析 | 第26-29页 |
| ·室温溅射PZT薄膜表面形貌分析 | 第26-27页 |
| ·200℃溅射PZT薄膜表面形貌分析 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜XRD分析 | 第29-32页 |
| ·室温溅射PZT薄膜XRD分析 | 第29-31页 |
| ·200℃溅射PZT薄膜XRD分析 | 第31-32页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜残余应力分析 | 第32-35页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜介电性能分析 | 第35-37页 |
| ·磁控溅射法制备PZT薄膜漏电特性分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 4 磁控溅射法与溶胶-凝胶法制备PZT薄膜对比分析 | 第41-54页 |
| ·磁控溅射法与溶胶-凝胶法制备方法对比分析 | 第41-45页 |
| ·磁控溅射法与溶胶-凝胶法制备PZT薄膜性能对比分析 | 第45-52页 |
| ·PZT薄膜表面形貌对比分析 | 第45-46页 |
| ·PZT薄膜XRD对比分析 | 第46-48页 |
| ·PZT薄膜残余应力对比分析 | 第48-50页 |
| ·PZT薄膜介电性能对比分析 | 第50-52页 |
| ·PZT薄膜漏电特性对比分析 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |