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n型掺杂金刚石的第一性原理研究

摘要第1-10页
ABSTRACT第10-12页
符号说明第12-13页
第一章 绪论第13-26页
   ·金刚石电子性质的研究背景及意义第13-14页
   ·金刚石的基本性质第14-17页
     ·金刚石的物理化学特性第14-15页
     ·金刚石的空间结构第15-16页
     ·金刚石作为半导体材料的优异性能第16-17页
   ·金刚石半导体器件及其应用第17-18页
     ·金刚石半导体器件第17页
     ·金刚石的应用第17-18页
   ·金刚石的分类第18-19页
   ·金刚石薄膜的制备第19-21页
   ·金刚石的n型研究第21-24页
     ·金刚石的n型掺杂研究进展及现状第22页
     ·金刚石杂质的掺杂方法第22-24页
 参考文献第24-26页
二 密度泛函理论第26-38页
   ·第一性原理及密度泛函理论的基本概念第26-31页
     ·Born-Oppenheimer绝热近似第26-27页
     ·Hartree-Fock(HF)近似第27-29页
     ·Hohenberg-Kohn(HK)定理第29-30页
     ·Kohn-Sham方程第30-31页
     ·DFT中轨道能级的意义第31页
   ·交换关联泛函第31-34页
     ·Slater平均交换势第31-32页
     ·局域密度近似第32-33页
     ·广义梯度近似第33-34页
     ·杂化泛函第34页
   ·密度泛函中的数值计算-布里渊区的特殊K点采样问题第34页
   ·赝势平面波算法(PPW)第34-35页
   ·计算软件第35-37页
     ·CASTEP程序第35页
     ·VASP软件包第35-37页
 参考文献第37-38页
第三章 硼和硫族元素共掺对金刚石导电特性的影响第38-49页
   ·研究背景第38-39页
   ·计算方法和模型第39-40页
   ·结果与讨论第40-46页
     ·形成能的计算与分析第40-41页
     ·B_S-X_S共掺金刚石的能带结构第41-43页
     ·电子结构分析第43-44页
     ·B_S-X_S-H复合物第44-46页
   ·本章小结第46-47页
 参考文献第47-49页
第四章 N、P掺杂对金刚石(100)和(111)表面电子性质的影响第49-60页
   ·研究背景第49页
   ·计算方法第49-50页
   ·结果与讨论第50-57页
     ·计算模型第50-51页
     ·缺陷形成能的计算和分析第51-52页
     ·能带及态密度的分析第52-57页
   ·本章小结第57-58页
 参考文献第58-60页
第五章 结束语第60-61页
硕士期间参加的研究项目第61-62页
致谢第62-63页
学位论文评阅及答辩情况表第63页

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