| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·纳米材料概述 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的定义 | 第9页 |
| ·纳米材料的分类 | 第9-10页 |
| ·纳米材料研究的发展历程及发展趋势 | 第10页 |
| ·纳米阵列结构的研究进展 | 第10-14页 |
| ·纳米阵列结构的制备方法 | 第10-13页 |
| ·纳米阵列结构的光学特性 | 第13-14页 |
| ·纳米阵列结构在光信息处理方面的应用 | 第14-15页 |
| ·本论文的主要研究思路和内容 | 第15-17页 |
| ·研究思路 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第16-17页 |
| 2 光信息处理的理论基础 | 第17-23页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·傅里叶变换 | 第17-20页 |
| ·傅里叶变换的定义 | 第17-18页 |
| ·离散傅里叶变换 | 第18页 |
| ·快速傅里叶变换的实现 | 第18-20页 |
| ·标量衍射理论基础 | 第20-22页 |
| ·标量衍射理论的发展历程 | 第20-21页 |
| ·标量衍射的理论公式 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 3 一种金属纳米颗粒阵列结构的制备装置及方法 | 第23-33页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·制备装置和方法 | 第23-28页 |
| ·实验材料及仪器设备 | 第23-24页 |
| ·聚合物金属纳米复合薄膜的制备步骤 | 第24-25页 |
| ·低功率激光直写装置和样品制备步骤 | 第25-28页 |
| ·实验结果 | 第28-31页 |
| ·实验一 | 第28-29页 |
| ·实验二 | 第29-30页 |
| ·实验三 | 第30-31页 |
| ·本实验装置的优点 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 纳米 Thue-morse 阵列结构的制备及远场衍射特性分析 | 第33-42页 |
| ·数值模拟 Thue-morse 阵列结构及其远场射强度分布 | 第33-36页 |
| ·纳米 Thue-morse 阵列结构的制备 | 第36-38页 |
| ·制备过程 | 第36-37页 |
| ·实验结果 | 第37-38页 |
| ·远场衍射特性分析 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 5 一种基于衍射强度减法的图像重建方法 | 第42-51页 |
| ·图像重建理论 | 第42-45页 |
| ·数值模拟结果 | 第45-47页 |
| ·成像装置 | 第45页 |
| ·图像重建 | 第45-47页 |
| ·噪音和噪音抑制问题 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 6 总结与展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 在学研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |