摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
·课题背景 | 第10-12页 |
·抗菌不锈钢的开发以及纳米多层复合膜国内外研究现状 | 第12-19页 |
·抗菌不锈钢的开发 | 第12-16页 |
·国内外纳米硬质多层膜的研究现状 | 第16-18页 |
·无机抗菌材料的抗菌原理 | 第18-19页 |
·抗菌金属材料的发展趋势 | 第19页 |
·本课题研究内容 | 第19-21页 |
第2章 实验方法及工艺 | 第21-30页 |
·实验材料及样品制备 | 第21页 |
·实验装置及工作原理 | 第21-23页 |
·实验装置 | 第21-22页 |
·试验原理 | 第22-23页 |
·实验参数的选取及实验方案 | 第23-27页 |
·实验过程 | 第23-24页 |
·直流磁控溅射离子镀沉积TiN 膜层工艺参数的选取 | 第24-25页 |
·多层膜沉积工艺参数 | 第25-27页 |
·MEVVA 源Cu 离子注入工艺参数 | 第27-28页 |
·膜层分析方法 | 第28-30页 |
第3章 表面形貌及机械、耐蚀性能分析 | 第30-49页 |
·表面形貌观察 | 第30-31页 |
·膜层断面观察 | 第31-34页 |
·硬度测试分析 | 第34-37页 |
·显微硬度分析 | 第34-35页 |
·纳米硬度测试 | 第35-37页 |
·摩擦磨损 | 第37-42页 |
·多层膜试样摩擦磨损曲线分析 | 第37-39页 |
·多层膜试样磨痕SEM 形貌 | 第39-41页 |
·Cu 离子注入试样的摩擦磨损 | 第41-42页 |
·腐蚀性能分析 | 第42-48页 |
·电化学腐蚀极化曲线分析 | 第42-44页 |
·电化学腐蚀后表面SEM 形貌观察 | 第44-45页 |
·浸泡腐蚀后光学显微观察 | 第45-46页 |
·浸泡腐蚀后电镜观察 | 第46-48页 |
·小结 | 第48-49页 |
第4章 膜层组织及结构分析 | 第49-55页 |
·能谱(EDS)分析 | 第49-50页 |
·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第50-52页 |
·小角度X 射线衍射(G-XRD)分析 | 第52-53页 |
·小结 | 第53-55页 |
第5章 抗菌试验 | 第55-71页 |
·概论 | 第55-56页 |
·抗菌检测设备及方法 | 第56-59页 |
·原则 | 第56页 |
·实验器材 | 第56页 |
·实验用试剂及培养基 | 第56页 |
·实验操作 | 第56-59页 |
·抗菌试验结果 | 第59-64页 |
·磁控溅射黄铜镀层抗菌试验 | 第59页 |
·多层膜镀层抗菌试验 | 第59-64页 |
·多层膜抗菌后的表面膜层分析 | 第64-68页 |
·Cu 离子注入试样的抗菌试验 | 第68-69页 |
·小结 | 第69-71页 |
结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第77页 |
哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第77-78页 |
哈尔滨工业大学硕士学位涉密论文管理 | 第78-79页 |
致谢 | 第79页 |