| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-37页 |
| ·光学薄膜概述 | 第13-14页 |
| ·光学薄膜的应用 | 第14-16页 |
| ·液晶显示技术中的光学薄膜 | 第14-16页 |
| ·光通信中的光学薄膜 | 第16页 |
| ·新型光学薄膜材料 | 第16-23页 |
| ·渐变折射率薄膜材料 | 第17-20页 |
| ·透明导电薄膜材料 | 第20-23页 |
| ·光学薄膜制备工艺 | 第23-25页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第23-24页 |
| ·溅射镀膜 | 第24-25页 |
| ·研究内容介绍 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-37页 |
| 第二章 SiO_x渐变折射率材料的反应磁控溅射工艺研究及SiO_x/SiO_2多层膜红外滤波片光学薄膜器件的制备 | 第37-59页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·样品的制备和测试 | 第38-40页 |
| ·ASC-800磁控溅射镀膜设备介绍 | 第38-39页 |
| ·实验方法和样品测量分析手段 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-54页 |
| ·硅氧化物薄膜的结晶性能,微结构与成分分析 | 第40-43页 |
| ·硅氧化物薄膜光学性质与沉积速率 | 第43-47页 |
| ·用硅氧化物薄膜材料制备SiO_x/SiO_2多层膜红外滤波片实例 | 第47-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第三章 用SiO_x制备渐变折射率Rugate Filter的理论及工艺研究 | 第59-78页 |
| ·Rugate filter概述 | 第59-61页 |
| ·对Rugate filter设计光谱特性的理论优化 | 第61-68页 |
| ·Rugare filter的反射带宽度及干涉旁瓣的起因分析 | 第61-63页 |
| ·通过对折射率振幅的调制抑制rugate filter的干涉旁瓣 | 第63-66页 |
| ·通过引入匹配层抑制Rugate Filter的干涉旁瓣 | 第66-68页 |
| ·渐变折射率SiO_x rugate filter的制备结果与讨论 | 第68-75页 |
| ·具有渐变折射率分布膜层的膜系设计与制备 | 第68-70页 |
| ·简单折射率正弦周期分布rugate fllter的制备 | 第70-73页 |
| ·有折射率振幅调制和外部介质匹配层的rugate filter | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 第四章 用自由基辅助磁控溅射法制备ZnO透明导电薄膜过程中的反溅射现象研究 | 第78-108页 |
| ·引言 | 第78-79页 |
| ·样品的制备与测试 | 第79-84页 |
| ·RAS-1100C自由基辅助溅射镀膜设备介绍 | 第79-80页 |
| ·实验方法和样品测量分析手段 | 第80-82页 |
| ·溅射损失率定义及经验公式的获得 | 第82-84页 |
| ·不导入O_2气条件下金属Zn膜的溅射损失 | 第84-92页 |
| ·固定Ar气流速,改变溅射功率沉积的金属Zn膜的损失 | 第84-88页 |
| ·固定溅射功率,改变Ar气流速沉积的金属Zn膜的溅射损失 | 第88-89页 |
| ·对于金属Zn膜溅射损失的讨论 | 第89-92页 |
| ·导入O_2气条件下制备ZnO膜的溅射损失与反溅射 | 第92-104页 |
| ·固定气体流速,改变溅射功率沉积ZnO_x膜 | 第92-98页 |
| ·固定溅射功率,改变溅射气体流速沉积ZnO_x膜 | 第98-100页 |
| ·使用Zn和Al靶同时溅射制备ZnO:Al的溅射损失 | 第100-101页 |
| ·关于反溅射机制的讨论 | 第101-104页 |
| ·本章小结 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 攻读学位期间完成的论文情况 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109页 |
