| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| ·氮化硅陶瓷 | 第10-13页 |
| ·氮化硅陶瓷的性能 | 第10-11页 |
| ·氮化硅陶瓷的应用 | 第11页 |
| ·氮化硅陶瓷存在的问题及发展方向 | 第11-12页 |
| ·氮化硅陶瓷的烧结方式 | 第12-13页 |
| ·反应烧结氮化硅陶瓷 | 第13-18页 |
| ·反应烧结氮化硅陶瓷的工艺 | 第13-14页 |
| ·反应烧结氮化硅陶瓷的影响因素 | 第14-18页 |
| ·陶瓷的烧结理论 | 第18-22页 |
| ·固相烧结机理 | 第18-20页 |
| ·液相烧结机理 | 第20-22页 |
| ·反应烧结机理 | 第22页 |
| ·研究的主要内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验材料和实验方法 | 第24-30页 |
| ·实验用原材料 | 第24页 |
| ·材料的制备 | 第24-26页 |
| ·原料的混合 | 第24页 |
| ·坯体制备 | 第24-25页 |
| ·氮化烧结 | 第25-26页 |
| ·组织与性能分析方法 | 第26-27页 |
| ·X射线衍射分析 | 第26-27页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第27页 |
| ·差热扫描分析 | 第27页 |
| ·物理及力学性能测试 | 第27-30页 |
| ·致密度测试 | 第27页 |
| ·硬度测试 | 第27-28页 |
| ·抗弯曲强度测试 | 第28页 |
| ·氧化实验测试 | 第28-29页 |
| ·抗热震性能测试 | 第29-30页 |
| 第3章 Si_3N_4-TiN-SiC陶瓷反应烧结热力学分析 | 第30-39页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·反应体系热力学计算 | 第30-32页 |
| ·TiSi_2-SiC体系的DSC分析 | 第32-35页 |
| ·工艺参数对理论转化率的影响 | 第35-38页 |
| ·稀释剂的含量对TiSi_2的转化率的影响 | 第35-37页 |
| ·毛坯孔隙率对TiSi_2转化率的影响 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 Si_3N_4-TiN-SiC陶瓷反应烧结工艺的研究 | 第39-48页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·复合陶瓷的转化率和相对致密度 | 第39-44页 |
| ·毛坯致密度对反应烧结的影响 | 第40页 |
| ·SiC的含量对反应烧结的影响 | 第40-42页 |
| ·Mo的含量对反应烧结的影响 | 第42-44页 |
| ·复合陶瓷的微观组织观察 | 第44-47页 |
| ·本章小节 | 第47-48页 |
| 第5章 Si_3N_4-TiN-SiC陶瓷的性能 | 第48-66页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·力学性能 | 第48-52页 |
| ·硬度 | 第48-50页 |
| ·抗弯强度 | 第50-52页 |
| ·抗氧化性能 | 第52-59页 |
| ·氧化增重分析 | 第53-55页 |
| ·氧化层微观结构观察 | 第55-59页 |
| ·抗热震性能 | 第59-64页 |
| ·抗热震理论 | 第59-61页 |
| ·复合陶瓷的抗热震性能 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73页 |