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掺杂ZnWO4激光晶体的生长与光谱性能研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第1章 绪论第12-19页
   ·概述第12-13页
   ·激光晶体的发展和基本特征第13-17页
     ·激光晶体的发展历程第13-15页
     ·激光晶体的基本特征第15-17页
   ·ZNWO_4 激光晶体的国内外研究现状第17页
   ·本课题的研究内容及意义第17-19页
第2章 ZNWO_4激光晶体的生长及样品制备第19-32页
   ·晶体生长技术第19-23页
     ·低温溶液晶体生长技术第19-20页
     ·助溶剂法晶体生长技术第20页
     ·水热法晶体生长技术第20-21页
     ·提拉法晶体生长技术第21-22页
     ·坩埚下降法晶体生长技术第22-23页
   ·晶体生长工艺参数的设计第23-28页
     ·溶质分凝和组分过冷第24-25页
     ·温度梯度的选择第25-26页
     ·提拉及旋转速度的选择第26-28页
   ·晶体生长第28-30页
     ·生长装置第28页
     ·原料制备第28-29页
     ·吊取籽晶第29页
     ·晶体生长过程第29-30页
   ·晶体加工第30-31页
   ·本章小结第31-32页
第3章 掺杂ZNWO_4激光晶体的光谱性能第32-40页
   ·晶体的X 射线衍射谱第32-33页
   ·晶体的吸收光谱第33-36页
     ·Tm:ZnWO_4 晶体的吸收光谱第33-34页
     ·掺杂ZnWO_4 晶体中Ce 离子的吸收光谱第34-36页
   ·晶体的荧光光谱第36-39页
     ·Tm:ZnWO_4 晶体的荧光光谱第36-37页
     ·Ce:Nd:ZnWO_4 晶体的荧光光谱第37-38页
     ·Eu:ZnWO_4 和Ce:Eu:ZnWO_4 晶体的荧光光谱第38-39页
   ·本章小结第39-40页
第4章 激光晶体的光谱理论计算分析第40-52页
   ·稀土离子的晶体场物理基础第40-41页
   ·晶体场、晶体化学与光谱特性的关系第41-44页
     ·晶体场作用第41-42页
     ·影响晶体场强度的因素第42-43页
     ·基质晶体与光谱参数第43-44页
   ·J-O 理论与光谱性能计算第44-51页
     ·J-O 理论模型第44-46页
     ·强度参数的确定和发光参数的计算第46-49页
     ·Nd:ZnWO_4 晶体的光谱性能计算第49-51页
   ·本章小结第51-52页
第5章 共掺CE~(3+)的敏化作用研究第52-58页
   ·CE~(3+)离子敏化作用研究简介第52-53页
   ·CE~(3+)对ND:ZNWO_4 上转换发光的敏化作用第53-56页
     ·上转换敏化发光机制第53-54页
     ·Ce~(3+)敏化作用的光谱分析第54-56页
   ·CE~(3+)对EU:ZNWO_4 晶体的敏化作用第56页
   ·本章小结第56-58页
结论第58-59页
附录1第59-61页
参考文献第61-67页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第67-68页
致谢第68页

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