表面剂诱导外延生长的KMC模拟

摘要	第1-5页
Abstract	第5-7页
目录	第7-9页
第一章 绪论	第9-13页
·薄膜研究的意义	第9-10页
·薄膜制备常用方法	第10-11页
·薄膜生长的计算机模拟	第11-13页
第二章 基本理论与知识背景	第13-22页
·薄膜生长的原子过程	第13-14页
·薄膜生长模式	第14-15页
·薄膜中的分形生长	第15-18页
·分形维数的定义	第16页
·盒维数计算方法	第16-18页
·DLA模型	第18-19页
·岛尺寸分布的标度理论	第19-22页
·临界岛尺寸	第19-20页
·岛尺寸分布	第20-22页
第三章 亚单层表面剂诱导外延生长	第22-42页
·RLA模型	第22-25页
·表面剂诱导外延	第22页
·表面剂诱导外延中二维岛构型的实验观察	第22-24页
·RLA模型	第24-25页
·正方衬底上的分形及规则团状生长	第25-29页
·改进的RLA模型	第25-26页
·岛形状和密度的演变	第26-29页
·正方衬底上岛的早期形核和生长行为	第29-35页
·扩散-交换-恢复交换生长模型	第29-31页
·形核生长及多重分形分析	第31-35页
·形核转变及岛尺寸的标度行为	第35-42页
·KMC模拟	第35-41页
·讨论与结论	第41-42页
第四章 总结	第42-43页
参考文献	第43-49页
致谢	第49-50页
攻读硕士期间的研究成果	第50页