| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-14页 |
| ·研究意义 | 第8-9页 |
| ·研究现状 | 第9-12页 |
| ·本文研究方法和各章节的安排 | 第12-14页 |
| 第二章 光学基体表面激光清洗的一般理论 | 第14-30页 |
| ·光学材料破坏的一般理论 | 第14-18页 |
| ·微粒和基片表面的各种吸附作用 | 第18-19页 |
| ·激光清洗的分类 | 第19-20页 |
| ·激光清洗的物理机制 | 第20-24页 |
| ·温度场的分析 | 第24-28页 |
| ·激光器的选择 | 第28页 |
| ·影响激光清洗效果的因素 | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第三章 等离子体清洗的基本原理 | 第30-40页 |
| ·等离子体产生的基本原理 | 第30页 |
| ·等离子体的分类 | 第30-31页 |
| ·低温等离子体产生的基本方法 | 第31-36页 |
| ·等离子体的表面清洗作用 | 第36-38页 |
| ·等离子体清洗的基本过程 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第四章 光热透镜技术测量光学材料的吸收研究 | 第40-48页 |
| ·问题的提出 | 第40-41页 |
| ·测试的基本原理 | 第41-43页 |
| ·实验装置 | 第43-44页 |
| ·应用 | 第44-46页 |
| ·讨论 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第五章 351nm 短脉冲激光对光学基片的清洗研究 | 第48-57页 |
| ·问题的提出 | 第48页 |
| ·污染物的分析 | 第48-49页 |
| ·污染物的蒸发实验 | 第49-50页 |
| ·三倍频（351NM）激光装置 | 第50-51页 |
| ·清洗方式的选择 | 第51页 |
| ·实验结果 | 第51-52页 |
| ·实验结果的讨论 | 第52-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第六章 CO_2激光和等离子体对石英基片的表面清洗 | 第57-66页 |
| ·问题的提出 | 第57页 |
| ·实验原理 | 第57-60页 |
| ·实验过程 | 第60-61页 |
| ·实验结果和讨论 | 第61-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第七章 结论和展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻硕期间所取得的研究成果 | 第71-72页 |