| 第1章 绪论 | 第1-27页 |
| ·微弧氧化技术的产生 | 第10-11页 |
| ·微弧氧化技术发展简史 | 第11-12页 |
| ·技术机理发展过程 | 第12-14页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的制备及结构 | 第14-21页 |
| ·微弧氧化的生成条件 | 第14-16页 |
| ·影响制备的因素 | 第16-18页 |
| ·膜层的制备方法 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化膜层的组织结构特点 | 第20-21页 |
| ·与阳极氧化的比较 | 第21-23页 |
| ·阳极氧化技术的特点 | 第21页 |
| ·阳极氧化膜的形成及膜的结构 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化与阳极氧化的区别与联系 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化与硬质阳极氧化的区别 | 第23页 |
| ·应用 | 第23-26页 |
| ·微弧氧化技术的优越性 | 第23-24页 |
| ·应用领域 | 第24-26页 |
| ·本文的研究目的及研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 微弧氧化试验设备 | 第27-31页 |
| ·试验装置图 | 第27页 |
| ·电源 | 第27-29页 |
| ·电源简介 | 第28页 |
| ·电源原理图 | 第28页 |
| ·电源技术参数 | 第28页 |
| ·输入、输出电缆线的连接 | 第28-29页 |
| ·注意事项 | 第29页 |
| ·冷却设备 | 第29页 |
| ·测试仪器及辅助试验器具 | 第29-31页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第29-30页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第30页 |
| ·电导率仪 | 第30页 |
| ·辅助实验设备 | 第30-31页 |
| 第3章 铝及铝合金微弧氧化试验 | 第31-57页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第31-35页 |
| ·试样材料及工艺流程 | 第31页 |
| ·陶瓷膜制备的影响因素 | 第31-33页 |
| ·微弧氧化过程及现象 | 第33-35页 |
| ·陶瓷膜形成过程的探讨 | 第35-38页 |
| ·等离子体的概念及氧等离子体的来源 | 第35页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的形成 | 第35-38页 |
| ·微弧氧化的反应机理描述 | 第38-39页 |
| ·微弧氧化膜的X衍射相结构分析和表面形貌观察 | 第39-40页 |
| ·电解质溶液体系对微弧氧化膜的影响 | 第40-43页 |
| ·硅酸钠、碳酸钠体系 | 第40-41页 |
| ·硼砂、磷酸氢二钠和硅酸钠、碳酸钠的复合体系 | 第41-42页 |
| ·XRD衍射分析 | 第42-43页 |
| ·电解液中电导率的影响 | 第43-48页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·试验设计 | 第44-45页 |
| ·电导率对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| ·电导率对微弧氧化膜相结构的影响 | 第46-48页 |
| ·微弧氧化时间的影响 | 第48-51页 |
| ·微弧氧化时间对膜层厚度的影响 | 第48-49页 |
| ·微弧氧化时间对膜层相结构的影响 | 第49-50页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·Na_2WO_4在Na_2CO_3、Na_2SiO_3电解液体系中对铝微弧氧化的影响 | 第51-54页 |
| ·微弧氧化膜摩擦磨损实验 | 第54-55页 |
| ·实验设计 | 第54-55页 |
| ·摩擦磨损表面形貌观察 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 钛及其合金的微弧氧化试验 | 第57-67页 |
| ·试验材料 | 第57页 |
| ·不同电解质溶液对微弧氧化膜的影响 | 第57-62页 |
| ·二氧化钛的三种同素异形体 | 第57页 |
| ·酸性电解质溶液—H_3PO_4+NaH_2PO_4 | 第57-59页 |
| ·近中性电解液—NH_4F+NH_4H_2PO_4+KBF_4 | 第59-60页 |
| ·弱碱性电解液—Na_2SiO_3+Na_2CO_3 | 第60-62页 |
| ·添加剂对微弧氧化膜的影响 | 第62-64页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜的影响 | 第64-66页 |
| ·试验设计 | 第64页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 研究生履历 | 第76页 |
