射频离子源研制及引出系统数值模拟
| 独创性声明 | 第1页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-11页 |
| ·本课题的研究背景 | 第8-10页 |
| ·本文所做主要工作 | 第10-11页 |
| 第二章 研究发展与现状 | 第11-17页 |
| ·离子源发展与现状 | 第11-15页 |
| ·考夫曼型离子源 | 第11-12页 |
| ·霍尔源 | 第12页 |
| ·ECR源 | 第12-13页 |
| ·GIS无栅离子源 | 第13页 |
| ·高频放电离子源 | 第13-15页 |
| ·RF离子源的主要优点及参数 | 第15-16页 |
| ·RF离子源的主要优点 | 第15页 |
| ·RF离子源的主要参数为 | 第15-16页 |
| ·不同种类离子源性能比较 | 第16-17页 |
| 第三章 射频离子源研制 | 第17-33页 |
| ·RF离子源的工作原理 | 第17-18页 |
| ·设备组成 | 第18-19页 |
| ·射频离子源设计 | 第19-20页 |
| ·放电室 | 第19页 |
| ·射频线圈 | 第19-20页 |
| ·中和器 | 第20页 |
| ·电磁防护及其他 | 第20页 |
| ·射频放电必要条件 | 第20-25页 |
| ·气体击穿判据 | 第20-21页 |
| ·射频离子源磁场有限元分析 | 第21-25页 |
| ·射频放电匹配网络 | 第25-31页 |
| ·高频离子源工作过程的划分 | 第31页 |
| ·小结 | 第31-33页 |
| 第四章 离子源的离子引出系统 | 第33-59页 |
| ·等离子鞘层 | 第33-34页 |
| ·离子光学设计基础 | 第34-35页 |
| ·影响离子源的引出系统的因素 | 第35-40页 |
| ·等离子体发射面的形状 | 第35-37页 |
| ·影响离子束束流的其他因素 | 第37-40页 |
| ·离子引出系统的数值计算 | 第40-58页 |
| ·强流离子引出系统数学模型 | 第40-45页 |
| ·计算方法 | 第45-47页 |
| ·强流离子引出系统数学模拟结果及分析 | 第47-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
