| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| 1. 团簇及其研究现状 | 第8-11页 |
| 2. 团簇在纳米科技中的新发展 | 第11-14页 |
| 3. 团簇束流技术 | 第14-15页 |
| 4. 本文的工作 | 第15-17页 |
| 本章参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 团簇束流源原理以及UHV-CBS 的调试 | 第20-44页 |
| 1. 分子束流源以及分子在气相下凝聚成团簇 | 第20-25页 |
| 2. 团簇束流源 | 第25-30页 |
| 3.U HV-CBS 的调试 | 第30-42页 |
| 本章参考文献 | 第42-44页 |
| 第三章 氧化包裹铅团簇的热力学稳定性和液体纳米喷射 | 第44-74页 |
| 1. 工作背景 | 第44-46页 |
| 2. 氧化层包裹的PB 团簇薄膜样品制备和鉴定 | 第46-49页 |
| 3. 加热包裹团簇实现纳米喷射 | 第49-59页 |
| 4. 纳米喷射工作状态的调节（气敏性） | 第59-63页 |
| 5. 相关问题讨论 | 第63-66页 |
| 6. 结论与展望 | 第66-70页 |
| 附录：RAMAN 峰宽对于内核压力的表征 | 第70-72页 |
| 本章参考文献 | 第72-74页 |
| 第四章 团簇束流方法改进BN 薄膜场发射性能的研究 | 第74-90页 |
| 1. 背景介绍 | 第74-81页 |
| 2. RF溅射制备BN 薄膜及其场发射工作过程中的形貌和成分变化 | 第81-85页 |
| 3. 团簇束流沉积方法制备的BN 薄膜的场发射性能测试 | 第85-87页 |
| 4. 讨论和展望 | 第87-89页 |
| 本章参考文献 | 第89-90页 |
| 第五章 离子束在MGF2表面获得纳米波纹结构的机制研究 | 第90-98页 |
| 1. 背景和理论模型的介绍 | 第90-93页 |
| 2. 我们的实验结果 | 第93-95页 |
| 3. 展望 | 第95页 |
| 本章参考文献 | 第95-98页 |
| 第六章 结论和展望 | 第98-102页 |
| 已经发表和准备发表的文章 | 第102-104页 |
| 致谢 | 第104页 |
