BST类铁电薄膜生长机理与应力调制研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·铁电材料与铁电薄膜 | 第12-16页 |
| ·BST类薄膜的生长机理与方法 | 第16-19页 |
| ·存在的主要科学技术问题 | 第19-22页 |
| ·本论文工作的研究思路和框架结构 | 第22-24页 |
| 第二章 实验过程与方法 | 第24-36页 |
| ·激光分子束外延系统的特点和实验装置 | 第24-26页 |
| ·RHEED的特点与系统结构 | 第26-30页 |
| ·微观分析方法 | 第30-36页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第30-32页 |
| ·X射线衍射分析 | 第32-36页 |
| 第三章 BST薄膜生长的模式控制研究 | 第36-54页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·BST类薄膜的生长模式控制和机理研究 | 第37-48页 |
| ·薄膜外延生长模式的确定 | 第37-42页 |
| ·薄膜生长模式的控制及其图谱的绘制 | 第42-46页 |
| ·薄膜生长模式控制的机理研究 | 第46-48页 |
| ·BST类薄膜的低温生长实验和动力学模型 | 第48-52页 |
| ·BST类薄膜的低温生长实验 | 第48-52页 |
| ·薄膜低温生长动力学模型 | 第52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 第四章 BST薄膜原胞生长动力学过程与模型研究 | 第54-72页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·BST类薄膜外延生长过程中的表面扩散研究 | 第54-61页 |
| ·BTO薄膜表面扩散的驰豫时间测量与激活能计算 | 第55-58页 |
| ·有效扩散率的计算 | 第58-61页 |
| ·BST类薄膜多胞生长现象 | 第61-66页 |
| ·原胞生长机理研究 | 第66-70页 |
| ·BST类薄膜单原胞生长动力学模型 | 第66-68页 |
| ·激光脉冲沉积中原胞形成的动力学过程和机理 | 第68-70页 |
| ·小结 | 第70-72页 |
| 第五章 BST薄膜异质外延生长与应力释放研究 | 第72-90页 |
| ·引言 | 第72-73页 |
| ·BST薄膜异质外延与应变释放动力学研究 | 第73-82页 |
| ·薄膜异质外延生长实验 | 第73-76页 |
| ·异质外延过程中应力释放的理论与实验研究 | 第76-82页 |
| ·压应力作用下BST薄膜表面微结构研究 | 第82-89页 |
| ·应变岛的控制与形成机理 | 第83-87页 |
| ·面内织构的控制与形成机理 | 第87-89页 |
| ·小结 | 第89-90页 |
| 第六章 BST类薄膜自组织生长与应力调制 | 第90-108页 |
| ·引言 | 第90-91页 |
| ·不同界面应力对薄膜异质外延生长过程的影响 | 第91-97页 |
| ·压应力作用下薄膜异质生长的规律 | 第91-93页 |
| ·张应力作用下薄膜异质生长的规律 | 第93-95页 |
| ·应力调制作用下薄膜的非对称性生长 | 第95-97页 |
| ·BST类薄膜异质外延自组织生长研究 | 第97-106页 |
| ·周期性自组织薄膜作为纳米线模板的机理 | 第106-107页 |
| ·小结 | 第107-108页 |
| 第七章 结论 | 第108-112页 |
| 参考文献 | 第112-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 作者简介 | 第123-124页 |
| 攻读博士学位期间已发表和待发表的论文 | 第124-125页 |
| 申请中的专利 | 第125页 |
