第一章 绪论 | 第1-14页 |
1.1 白药散剂流水生产线改造的背景及意义 | 第7-8页 |
1.2 现场总线的选择 | 第8-11页 |
1.3 上位机监控组态软件的选择 | 第11-13页 |
1.4 本文的研究内容 | 第13-14页 |
第二章 云南白药散剂生产线简介 | 第14-18页 |
2.1 白药散剂工艺流程图 | 第14-15页 |
2.2 白药散剂工艺流程描述 | 第15-18页 |
第三章 系统总体设计 | 第18-27页 |
3.1 系统分析 | 第18-20页 |
3.1.1 设备现况分析 | 第18-19页 |
3.1.2 ERP系统现况分析 | 第19-20页 |
3.2 系统的总体构成 | 第20-27页 |
3.2.1 系统硬件配置 | 第20-25页 |
3.2.2 CC-Link的软件总体规划 | 第25-26页 |
3.2.3 上位机软件的客户端和服务器端总体规划 | 第26-27页 |
第四章 系统实现 | 第27-57页 |
4.1 CC-LINK系统软件设计 | 第27-39页 |
4.1.1 CC-LINK系统资源分配 | 第27-31页 |
4.1.2 主站PLC程序设计 | 第31-34页 |
4.1.3 远程设备站PLC程序设计及人机界面设计 | 第34-39页 |
4.2 上位机软件设计 | 第39-57页 |
4.2.1 上位机软件系统的需求分析 | 第40-41页 |
4.2.2 系统目标 | 第41-42页 |
4.2.3 上位机软件系统功能 | 第42-43页 |
4.2.4 上位机软件系统功能分析 | 第43-44页 |
4.2.5 上位机软件系统实现 | 第44-57页 |
4.2.5.1 系统初始化设计 | 第44页 |
4.2.5.2 数据采集功能实现 | 第44-53页 |
4.2.5.3 数据查询和统计功能实现 | 第53-55页 |
4.2.5.4 维护功能实现 | 第55页 |
4.2.5.5 打印功能实现 | 第55-57页 |
第五章 系统抗干扰措施 | 第57-62页 |
5.1 电磁兼容性概述 | 第57-58页 |
5.2 干扰源及干扰形式 | 第58页 |
5.3 系统的抗干扰措施 | 第58-60页 |
5.4 PLC抗干扰的软件措施 | 第60-62页 |
第六章 结束语 | 第62-65页 |
6.1 结论 | 第62-63页 |
6.2 系统的下一步工作 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
致谢 | 第68页 |