TiO2薄膜的制备及特性表征
| 第一章 绪论 | 第1-14页 |
| ·TIO_2薄膜的研究现状 | 第8-9页 |
| ·论文研究内容概述 | 第9-10页 |
| ·相关理论 | 第10-14页 |
| 第二章 实验仪器 | 第14-16页 |
| ·衬底清洗设备 | 第14页 |
| ·磁控溅射镀膜机及其它附属设备 | 第14页 |
| ·检测设备 | 第14-15页 |
| ·主要试剂 | 第15页 |
| ·衬底 | 第15-16页 |
| 第三章 TIO_2薄膜磁控溅射制备 | 第16-21页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第16页 |
| ·磁控溅射靶的制备 | 第16-17页 |
| ·纳米TIO_2薄膜的制备 | 第17-19页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第19-20页 |
| ·实验过程中注意问题和总结经验 | 第20-21页 |
| 第四章 TIO_2薄膜结构特性的测试与分析 | 第21-45页 |
| ·表面形貌分析 | 第21-28页 |
| ·检测手段(原子力显微镜) | 第21-22页 |
| ·实验结果与分析 | 第22-28页 |
| ·薄膜厚度检测分析 | 第28-34页 |
| ·检测手段(椭圆偏振检测术) | 第28-29页 |
| ·实验结果与分析 | 第29-34页 |
| ·结构晶相分析 | 第34-38页 |
| ·检测手段(X射线衍射) | 第34-35页 |
| ·实验结果与分析 | 第35-38页 |
| ·薄膜的亲水性分析 | 第38-42页 |
| ·薄膜亲水性特性 | 第38-39页 |
| ·薄膜亲水性检测结果与分析 | 第39-42页 |
| ·薄膜成分分析 | 第42-45页 |
| ·检测手段(能量色散谱) | 第42-43页 |
| ·实验结果与分析 | 第43-45页 |
| 第五章 结论与讨论 | 第45-47页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| ·将来有待进行的工作 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 研究生期间发表的文章 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
