| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 综述 | 第9-19页 |
| ·等离子体及其应用 | 第9-10页 |
| ·常压非平衡等离子体研究现状及存在的问题 | 第10-16页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第16-19页 |
| 第2章 常压非平衡等离子体获取方法及其比较 | 第19-42页 |
| ·常压非平衡等离子体的若干基本概念 | 第19-22页 |
| ·等离子体的粒子密度和温度 | 第19-21页 |
| ·等离子体的性质 | 第21-22页 |
| ·气体放电的点燃电压 | 第22-23页 |
| ·常压非平衡等离子体 | 第23-39页 |
| ·获得常压非平衡等离子体的必要性 | 第23-24页 |
| ·常压气体放电非平衡等离子体获取方法 | 第24-37页 |
| ·实际放电情况的观测分析 | 第37-39页 |
| ·常压下几种不同放电形式与低气压辉光放电的比较 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第3章 常压非平衡等离子体实验装置 | 第42-53页 |
| ·常压非平衡等离子体渗扩实验装置的研制 | 第42-50页 |
| ·反应器的研制 | 第42-45页 |
| ·电源的研制 | 第45-50页 |
| ·常压非平衡等离子体纳米粉制备装置的研制 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 常压非平衡等离子体渗扩实验及机理分析 | 第53-82页 |
| ·等离子体表面渗扩技术的研究现状及发展趋势 | 第53-58页 |
| ·等离子体表面渗扩技术的概念、基本原理和发展历程 | 第53-55页 |
| ·等离子体渗扩技术研究的基本概况 | 第55-57页 |
| ·等离子渗扩技术目前的研究热点 | 第57-58页 |
| ·现有等离子体渗扩技术的不足及常压非平衡等离子体表面渗扩技术的提出 | 第58页 |
| ·金属表面常压非平衡等离子体渗氮研究 | 第58-76页 |
| ·渗氮工艺条件和参数 | 第58-60页 |
| ·实验方法 | 第60页 |
| ·放电造成的温升实验 | 第60-62页 |
| ·电场内外渗扩效果对比实验 | 第62-63页 |
| ·工艺参数对常压非平衡等离子体渗氮层的影响 | 第63-72页 |
| ·与真空辉光离子渗氮比较 | 第72-73页 |
| ·活塞环槽渗氮后的摩擦磨损实验 | 第73-76页 |
| ·常压非平衡等离子体渗氮机理分析 | 第76-80页 |
| ·现有的几种渗氮机理 | 第76-79页 |
| ·常压非平衡等离子体氮化的机理分析 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第5章 常压气体放电非平衡等离子体诊断分析 | 第82-90页 |
| ·发射光谱装置简介 | 第82-83页 |
| ·常压下氮气及氨气介质阻挡放电发射光谱分析 | 第83-89页 |
| ·氮气中介质阻挡放电发射光谱分析 | 第83-86页 |
| ·氨气中介质阻挡放电发射光谱分析 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第6章 常压非平衡等离子体纳米粉的制备 | 第90-114页 |
| ·概述 | 第90-91页 |
| ·TiO_2 纳米粉体材料的制备方法综述 | 第91-95页 |
| ·物理法 | 第91-92页 |
| ·化学气相沉积法 | 第92-93页 |
| ·液相法 | 第93-94页 |
| ·固相法 | 第94页 |
| ·其它方法 | 第94-95页 |
| ·常压非平衡等离子体纳米粉制备的基本原理 | 第95-96页 |
| ·常压气体放电原理 | 第95页 |
| ·氧等离子体的状态与反应原理 | 第95-96页 |
| ·常压非平衡等离子体制备TiO_2 纳米粉实验 | 第96-109页 |
| ·实验装置 | 第96-97页 |
| ·主要实验参数的影响规律 | 第97-107页 |
| ·纳米TiO_2 的差热(DSC)分析和X 射线衍射分析 | 第107-109页 |
| ·常压非平衡等离子体纳米粉制备的特点 | 第109页 |
| ·常压非平衡等离子体制备的TiO_2 纳米粉减摩抗磨性能实验 | 第109-113页 |
| ·TiO_2 纳米润滑油添加剂 | 第110-112页 |
| ·TiO_2 纳米粉减摩抗磨机理分析 | 第112-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 第7章 结论与展望 | 第114-116页 |
| 本文创新点 | 第116-117页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文、著作和完成的科研项目 | 第117-120页 |
| 致谢 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-127页 |
