| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·半导体光催化剂概述 | 第9-11页 |
| ·TiO_2纳米光催化材料 | 第11-18页 |
| ·半导体TiO_2 光催化剂的结构特征 | 第11-12页 |
| ·半导体TiO_2光催化降解机理 | 第12-13页 |
| ·掺杂纳米TiO_2的光催化机理 | 第13-14页 |
| ·影响TiO_2光催化性能的因素 | 第14-15页 |
| ·提高TiO_2光催化活性的途径 | 第15-18页 |
| ·TiO_2光催化剂的应用进展 | 第18-21页 |
| ·废水中有机物的光氧化处理 | 第18-19页 |
| ·气体中有机物的光催化氧化处理 | 第19页 |
| ·重金属及特殊化合物处理 | 第19页 |
| ·光催化抗菌消毒 | 第19-21页 |
| ·立题思想 | 第21-22页 |
| ·立题背景 | 第21-22页 |
| ·立题的提出 | 第22页 |
| ·研究的内容和意义 | 第22-23页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第23-29页 |
| ·实验材料 | 第23-24页 |
| ·主要化学试剂 | 第23-24页 |
| ·实验方案 | 第24-26页 |
| ·实验目的 | 第24页 |
| ·溶胶-凝胶过程机理 | 第24-26页 |
| ·TiO_2掺杂改性方案的确定 | 第26页 |
| ·实验方法 | 第26-29页 |
| ·溶胶的制备 | 第26页 |
| ·掺氮粉体、薄膜的制备 | 第26页 |
| ·基片的制备 | 第26-27页 |
| ·膜层的制备 | 第27页 |
| ·表征方法 | 第27页 |
| ·光催化性能测试 | 第27-29页 |
| 第3章 不同元素掺杂纳米TiO_2薄膜光催化活性的研究 | 第29-37页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·化学试剂和原料 | 第29页 |
| ·基片的制备 | 第29页 |
| ·膜层的制备 | 第29页 |
| ·溶胶的制备 | 第29-30页 |
| ·光催化性能测试 | 第30页 |
| ·光催化剂的实验结果 | 第30-34页 |
| ·光催化剂的掺杂浓度对降解效率的影响 | 第30-34页 |
| ·不同离子掺杂光催化剂选择性降解有机物的理论分析 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-37页 |
| 第4章 非均匀掺杂薄膜的制备及光催化性能 | 第37-47页 |
| ·实验部分 | 第37-39页 |
| ·化学试剂和原料 | 第37页 |
| ·基片的制备 | 第37-38页 |
| ·溶胶的制备 | 第38页 |
| ·表征方法 | 第38页 |
| ·光催化性能测试 | 第38-39页 |
| ·实验结果 | 第39-43页 |
| ·XRD 图谱 | 第39-40页 |
| ·紫外光光催化能力 | 第40-41页 |
| ·UV-Vis 透射光谱 | 第41-42页 |
| ·可见光光催化能力 | 第42-43页 |
| ·非均匀掺杂薄膜光催化性能的理论分析 | 第43-45页 |
| ·XRD 图谱分析 | 第43-44页 |
| ·非均匀掺杂TiO_2薄膜的紫外光光催化活性分析 | 第44-45页 |
| ·非均匀掺杂TiO_2薄膜的可见光催化活性分析 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 纳米N-T1O_2薄膜的制备及其光催化性能 | 第47-55页 |
| ·实验部分 | 第47-48页 |
| ·纳米N-TiO_2粉体、薄膜的制备 | 第47页 |
| ·物相结构、表面形貌的表征 | 第47-48页 |
| ·氮掺杂形式的确定 | 第48页 |
| ·薄膜的光吸收性能 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-54页 |
| ·粉体的物相分析 | 第48-49页 |
| ·N-TiO_2粉体的表面形貌 | 第49-50页 |
| ·氮的掺杂形式分析 | 第50-51页 |
| ·UV-Vis 分析 | 第51页 |
| ·光催化性能评价 | 第51-54页 |
| ·本章结论 | 第54-55页 |
| 第6章 结论 | 第55-57页 |
| ·主要结论 | 第55-56页 |
| ·论文的创新点 | 第56页 |
| ·需要进一步研究的问题 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位发表论文 | 第64页 |