| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-34页 |
| ·超导材料的发展历程 | 第10-14页 |
| ·超导理论的发展 | 第14-15页 |
| ·超导材料的分类 | 第15-16页 |
| ·高温超导材料 | 第16-21页 |
| ·Y-Ba-Cu-O系 | 第17-18页 |
| ·Bi-Sr-Ca-Cu-O系 | 第18-19页 |
| ·RE_(2-x)Ce_xCuO_(4-δ)(RE=Sm，Pr，Nd) | 第19-20页 |
| ·HTSC的特征 | 第20-21页 |
| ·超导材料的主要应用 | 第21-24页 |
| ·强电应用 | 第21-23页 |
| ·弱电应用 | 第23-24页 |
| ·高温超导薄膜 | 第24-32页 |
| ·高温超导薄膜的构造 | 第24-25页 |
| ·高温超导薄膜的衬底 | 第25-26页 |
| ·高温超导薄膜的缓冲层 | 第26-27页 |
| ·高温超导薄膜的制备方法 | 第27-32页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第32-34页 |
| 第2章 实验装置及分析检测方法 | 第34-45页 |
| ·溅射现象及机理 | 第34-36页 |
| ·离子轰击固体表面所引起的各种效应 | 第34-35页 |
| ·溅射机理 | 第35-36页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第36-37页 |
| ·基本溅射镀膜类型 | 第37-43页 |
| ·直流溅射 | 第37-38页 |
| ·射频溅射 | 第38-39页 |
| ·反应溅射 | 第39-40页 |
| ·磁控溅射 | 第40-43页 |
| ·样品分析测试 | 第43-45页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第43页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第43-44页 |
| ·差热(TG/DTA)分析 | 第44-45页 |
| 第3章 YBiO_3靶材制备及薄膜沉积研究 | 第45-54页 |
| ·YBiO_3粉体制备及性能研究 | 第45-48页 |
| ·YBiO_3靶材制备 | 第48-51页 |
| ·YBiO_3薄膜制备及其表征 | 第51-52页 |
| ·氧分压对溅射过程中靶材的影响 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第4章 YBCO靶材制备及其薄膜沉积 | 第54-69页 |
| ·靶材制备 | 第54-57页 |
| ·YBCO薄膜性能测试及微观分析 | 第57-65页 |
| ·溅射压强对YBCO薄膜生长的影响 | 第59-62页 |
| ·基片对薄膜生长的影响 | 第62-63页 |
| ·YBCO溅射率 | 第63-65页 |
| ·YBCO靶材失效性分析 | 第65-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77页 |