| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| 1.1 分子电子学简述 | 第13-14页 |
| 1.2 单分子电子学测量技术 | 第14-19页 |
| 1.2.1 金属原子点接触或分子结的构筑 | 第14-15页 |
| 1.2.2 扫描隧道裂结技术 | 第15-16页 |
| 1.2.3 原子力显微镜裂结技术 | 第16-17页 |
| 1.2.4 机械可控裂结技术 | 第17-19页 |
| 1.3 电学性质表征方法 | 第19-22页 |
| 1.3.1 单原子/分子尺度的电输运 | 第19-20页 |
| 1.3.2 一维电导统计 | 第20-21页 |
| 1.3.3 连接时间的统计方法 | 第21-22页 |
| 1.4 控制技术 | 第22-25页 |
| 1.4.1 控制技术的发展与前景 | 第22-24页 |
| 1.4.2 PID控制技术 | 第24-25页 |
| 1.5 本论文的研究目的与意义 | 第25-26页 |
| 第二章 实验 | 第26-28页 |
| 2.1 实验主要试剂 | 第26页 |
| 2.2 实验主要仪器 | 第26-28页 |
| 第三章 基于纳米金属电极对间距精密调控技术的单原子尺度的控制 | 第28-50页 |
| 3.1 单原子电导测量 | 第28-32页 |
| 3.1.1 普通切口金丝芯片的制作 | 第29-30页 |
| 3.1.2 获取目标原子电导设定值 | 第30-32页 |
| 3.2 PID控制技术对纳米金属电极对的调控 | 第32-36页 |
| 3.2.1 PID控制参数整定 | 第34-35页 |
| 3.2.2 数据采集与分析 | 第35-36页 |
| 3.3 基于普通切口金丝芯片的单原子连接稳定控制 | 第36-43页 |
| 3.3.1 对照实验 | 第36-38页 |
| 3.3.2 Au单原子点接触稳定连接时间的分布 | 第38-39页 |
| 3.3.3 稳定连接时间所占比例 | 第39-40页 |
| 3.3.4 PID控制参数整定结果 | 第40-43页 |
| 3.4 基于微加工芯片的单原子连接稳定控制 | 第43-50页 |
| 3.4.1 对照实验 | 第44-45页 |
| 3.4.2 Au单原子点接触稳定连接时间的分布 | 第45页 |
| 3.4.3 稳定连接时间所占比例 | 第45-46页 |
| 3.4.4 PID控制参数整定结果 | 第46-50页 |
| 第四章 单原子/分子尺度的控制技术的应用 | 第50-60页 |
| 4.1 单分子的电导测试 | 第50-52页 |
| 4.1.1 获取目标分子电导设定值 | 第50-51页 |
| 4.1.2 单分子电导的稳定控制 | 第51-52页 |
| 4.2 应用稳定控制技术实现MCBJ设备与拉曼光谱检测联用 | 第52-56页 |
| 4.2.1 拉曼光谱用于单分子结表征的研究现状 | 第52-53页 |
| 4.2.2 机械可控裂结技术-拉曼联用设备的搭建 | 第53-55页 |
| 4.2.3 控制技术-机械可控裂结技术-拉曼联用检测 | 第55-56页 |
| 4.3 MCBJ仪器稳定性的测量与验证 | 第56-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第69页 |
