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石英湿法刻蚀微结构及其水平集方法计算模拟

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 研究背景第10-11页
    1.2 课题研究的意义第11-12页
    1.3 课题研究现状和关键技术第12-16页
        1.3.1 石英各向异性湿法刻蚀研究现状第12页
        1.3.2 晶体各向异性刻蚀模拟方法第12-13页
        1.3.3 LevelSet方法简介第13-15页
        1.3.4 Wullf-Jaccodine和特征点法第15页
        1.3.5 石英的双面刻蚀第15-16页
        1.3.6 高密度微针阵列第16页
    1.4 论文组织结构第16-20页
第二章 石英湿法刻蚀基础及形貌第20-30页
    2.1 石英晶体第20-21页
        2.1.1 石英的基本结构第20页
        2.1.2 不同切向的石英晶片第20-21页
    2.2 石英湿法刻蚀及速度测量第21-23页
        2.2.1 石英湿法刻蚀第21页
        2.2.2 石英湿法刻蚀的全空间速率测量第21-23页
    2.3 各向异性湿法刻蚀形貌预测第23-28页
        2.3.1 平面波模型第23-26页
        2.3.2 特征值法第26-28页
    2.4 本章小结第28-30页
第三章 LevelSet方法在晶体湿法刻蚀模拟中的应用第30-44页
    3.1 LevelSet函数和方程第30-32页
        3.1.1 LevelSet函数第30-31页
        3.1.2 符号距离函数第31页
        3.1.3 LevelSet方程第31-32页
    3.2 速度场的设计第32-35页
        3.2.1 速度场与晶体坐标的对应第32-33页
        3.2.2 不同切向晶体的转换第33-35页
    3.3 LevelSet方程的数值解第35-40页
        3.3.1 LevelSet方程的差分格式第35-36页
        3.3.2 LevelSet方程的离散格式第36-38页
        3.3.3 重新初始化第38-40页
    3.4 LevelSet方法在晶片刻蚀中的应用第40-42页
        3.4.1 掩模的处理第40-42页
        3.4.2 模拟结果第42页
    3.5 本章小结第42-44页
第四章 实验结果分析和应用第44-62页
    4.1 石英的湿法刻蚀实验研究第44-46页
    4.2 石英湿法刻蚀形貌及其模拟第46-48页
        4.2.1 不同转角下的AT-cut,BT-cut槽形貌第46-47页
        4.2.2 AT-cut,BT-cut石英晶片凹槽和凸台的刻蚀形貌第47-48页
    4.3 LevelSet方法在双面刻蚀中的应用第48-60页
        4.3.1 腐蚀液和温度的影响第48-49页
        4.3.2 基于LevelSet的双面刻蚀寻优第49-56页
        4.3.3 双面刻蚀的应用第56-60页
    4.4 LevelSet方法在复杂结构中的应用第60-61页
    4.5 本章小结第61-62页
第五章 高密度曲面和斜面的微针阵列第62-77页
    5.1 微针的研究现状第62-64页
    5.2 基于LevelSet的微针阵列设计第64-65页
    5.3 针状凸台的刻蚀模型第65-68页
        5.3.1 掩模钻蚀模型第66-67页
        5.3.2 自由刻蚀模型第67-68页
    5.4 掩模尺寸设计第68-71页
    5.5 微针阵列的特征研究第71-75页
        5.5.1 微针阵列参数计算第71-72页
        5.5.2 微针阵列实验结果分析第72-75页
    5.6 本章小结第75-77页
第六章 总结与展望第77-80页
    6.1 论文的主要工作第77页
    6.2 展望第77-80页
致谢第80-81页
参考文献第81-84页
作者简介第84页

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