摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 研究背景 | 第10-11页 |
1.2 课题研究的意义 | 第11-12页 |
1.3 课题研究现状和关键技术 | 第12-16页 |
1.3.1 石英各向异性湿法刻蚀研究现状 | 第12页 |
1.3.2 晶体各向异性刻蚀模拟方法 | 第12-13页 |
1.3.3 LevelSet方法简介 | 第13-15页 |
1.3.4 Wullf-Jaccodine和特征点法 | 第15页 |
1.3.5 石英的双面刻蚀 | 第15-16页 |
1.3.6 高密度微针阵列 | 第16页 |
1.4 论文组织结构 | 第16-20页 |
第二章 石英湿法刻蚀基础及形貌 | 第20-30页 |
2.1 石英晶体 | 第20-21页 |
2.1.1 石英的基本结构 | 第20页 |
2.1.2 不同切向的石英晶片 | 第20-21页 |
2.2 石英湿法刻蚀及速度测量 | 第21-23页 |
2.2.1 石英湿法刻蚀 | 第21页 |
2.2.2 石英湿法刻蚀的全空间速率测量 | 第21-23页 |
2.3 各向异性湿法刻蚀形貌预测 | 第23-28页 |
2.3.1 平面波模型 | 第23-26页 |
2.3.2 特征值法 | 第26-28页 |
2.4 本章小结 | 第28-30页 |
第三章 LevelSet方法在晶体湿法刻蚀模拟中的应用 | 第30-44页 |
3.1 LevelSet函数和方程 | 第30-32页 |
3.1.1 LevelSet函数 | 第30-31页 |
3.1.2 符号距离函数 | 第31页 |
3.1.3 LevelSet方程 | 第31-32页 |
3.2 速度场的设计 | 第32-35页 |
3.2.1 速度场与晶体坐标的对应 | 第32-33页 |
3.2.2 不同切向晶体的转换 | 第33-35页 |
3.3 LevelSet方程的数值解 | 第35-40页 |
3.3.1 LevelSet方程的差分格式 | 第35-36页 |
3.3.2 LevelSet方程的离散格式 | 第36-38页 |
3.3.3 重新初始化 | 第38-40页 |
3.4 LevelSet方法在晶片刻蚀中的应用 | 第40-42页 |
3.4.1 掩模的处理 | 第40-42页 |
3.4.2 模拟结果 | 第42页 |
3.5 本章小结 | 第42-44页 |
第四章 实验结果分析和应用 | 第44-62页 |
4.1 石英的湿法刻蚀实验研究 | 第44-46页 |
4.2 石英湿法刻蚀形貌及其模拟 | 第46-48页 |
4.2.1 不同转角下的AT-cut,BT-cut槽形貌 | 第46-47页 |
4.2.2 AT-cut,BT-cut石英晶片凹槽和凸台的刻蚀形貌 | 第47-48页 |
4.3 LevelSet方法在双面刻蚀中的应用 | 第48-60页 |
4.3.1 腐蚀液和温度的影响 | 第48-49页 |
4.3.2 基于LevelSet的双面刻蚀寻优 | 第49-56页 |
4.3.3 双面刻蚀的应用 | 第56-60页 |
4.4 LevelSet方法在复杂结构中的应用 | 第60-61页 |
4.5 本章小结 | 第61-62页 |
第五章 高密度曲面和斜面的微针阵列 | 第62-77页 |
5.1 微针的研究现状 | 第62-64页 |
5.2 基于LevelSet的微针阵列设计 | 第64-65页 |
5.3 针状凸台的刻蚀模型 | 第65-68页 |
5.3.1 掩模钻蚀模型 | 第66-67页 |
5.3.2 自由刻蚀模型 | 第67-68页 |
5.4 掩模尺寸设计 | 第68-71页 |
5.5 微针阵列的特征研究 | 第71-75页 |
5.5.1 微针阵列参数计算 | 第71-72页 |
5.5.2 微针阵列实验结果分析 | 第72-75页 |
5.6 本章小结 | 第75-77页 |
第六章 总结与展望 | 第77-80页 |
6.1 论文的主要工作 | 第77页 |
6.2 展望 | 第77-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-84页 |
作者简介 | 第84页 |