硅基光栅波长调制技术的研究
中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
第1章 绪论 | 第8-13页 |
1.1 硅基光栅调制技术的研究目的 | 第8-9页 |
1.2 硅基光栅调技术的研究进展 | 第9-11页 |
1.2.1 硅基光栅研究进展 | 第9-10页 |
1.2.2 调制技术的研究进展 | 第10-11页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第11-13页 |
第2章 硅光栅工作原理 | 第13-21页 |
2.1 硅波导耦合理论 | 第13-14页 |
2.2 硅光栅耦合理论 | 第14-17页 |
2.3 SOI脊型光波导单模条件 | 第17-21页 |
第3章 波长调制技术基本原理 | 第21-31页 |
3.1 硅基光栅热调制原理 | 第21-26页 |
3.1.1 光学介质的热光效应 | 第22-24页 |
3.1.2 热光材料的选择及热调制原理 | 第24-26页 |
3.2 硅基光栅电调制原理 | 第26-31页 |
3.2.1 光学介质的电光效应 | 第26-28页 |
3.2.2 电光材料的选择及电调制原理 | 第28-31页 |
第4章 硅基光栅软件仿真及特性分析 | 第31-49页 |
4.1 RSOFT软件介绍 | 第31-32页 |
4.2 硅基光栅模场分布及折射率空间分布仿真 | 第32-36页 |
4.3 硅基光栅传输特性仿真分析 | 第36-38页 |
4.4 硅基光栅器件参数对硅基光栅性能的影响 | 第38-44页 |
4.4.1 硅基光栅齿幅对带宽的影响仿真 | 第38-41页 |
4.4.2 硅光栅长度对带宽的影响仿真 | 第41-44页 |
4.5 硅基光栅的热调制特性仿真 | 第44-49页 |
第5章 硅基光栅的结构及制造工艺 | 第49-58页 |
5.1 硅光栅结构设计及制造工艺 | 第49-54页 |
5.1.1 SOI结构的制作流程 | 第49-50页 |
5.1.2 脊型结构的制作流程 | 第50-52页 |
5.1.3 光栅结构的制作流程 | 第52-54页 |
5.2 锥形光纤的结构设计及制造工艺 | 第54页 |
5.3 V型槽的结构设计及制造工艺 | 第54-58页 |
5.3.1 V型槽的尺寸设计 | 第54-55页 |
5.3.2 V型槽的制作流程 | 第55-58页 |
结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第66-67页 |