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WO3-ZnO异质结构的合成及生长机理研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-28页
    1.1 前言第10页
    1.2 金属半导体气敏材料概述第10-18页
        1.2.1 金属氧化物半导体气敏材料研究现状第11-13页
        1.2.2 金属氧化物半导体气敏材料的气敏机理第13-15页
        1.2.3 WO_3半导体气敏材料第15-16页
        1.2.4 ZnO半导体气敏材料第16-18页
    1.3 异质结概述第18-23页
        1.3.1 表面修饰笫二相颗粒的纳米结构第18-20页
        1.3.2 复合一维异质结构第20-21页
        1.3.3 混合一维异质结构第21-22页
        1.3.4 核壳结构第22-23页
    1.4 生长机理与晶格失配度第23-26页
        1.4.1 晶体生长机理第23-24页
        1.4.2 晶格失配理论第24-26页
    1.5 研究意义和方案第26-28页
第二章 一维WO_3纳米结构的合成及生长机理分析第28-35页
    2.1 前言第28页
    2.2 仪器设备与试剂第28-29页
        2.2.1 实验试剂第28-29页
        2.2.2 实验仪器第29页
    2.3 实验结果与分析第29-34页
        2.3.1 一维WO_3纳米结构的水热合成第29-30页
        2.3.2 一维WO_3纳米结构水热合成反应条件的优化第30-31页
        2.3.3 一维WO_3纳米结构的生长机理第31-34页
    2.4 本章小结第34-35页
第三章 原位加热钨酸微乳液制备一维WO_3纳米棒第35-42页
    3.1 前言第35页
    3.2 仪器设备与试剂第35-36页
        3.2.1 实验试剂第35-36页
        3.2.2 实验仪器第36页
    3.3 实验结果与分析第36-40页
        3.3.1 微乳液法制备Wo第36-37页
        3.3.2 WO_3的结构表征及微乳液加热的原位观察第37-40页
    3.4 本章小结第40-42页
第四章 一维WO_3-ZnO异质结构的合成及生长机理分析第42-52页
    4.1 前言第42页
    4.2 仪器设备与试剂第42-43页
        4.2.1 实验试剂第42-43页
        4.2.2 实验仪器第43页
    4.3 实验结果与分析第43-50页
        4.3.1 一维WO_3-ZnO异质结构的合成第43-44页
        4.3.2 一维WO_3-ZnO异质结构的结构表征及水热合成反应条件的优化第44-47页
        4.3.3 一维WO_3-ZnO异质结构的生长机理第47-50页
    4.4 本章小结第50-52页
第五章 结论与展望第52-54页
    5.1 本文主要研究成果第52-53页
        5.1.1 研究成果第52页
        5.1.2 本论文的创新点第52-53页
    5.2 后续工作展望第53-54页
参考文献第54-61页
致谢第61-62页
个人简历第62-63页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文与其它研究成果第63页

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