| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 电介质基本概念及其理论 | 第12-19页 |
| 1.1.1 电介质的基本概念 | 第12页 |
| 1.1.2 介质的电极化理论 | 第12-14页 |
| 1.1.3 介电常数 | 第14页 |
| 1.1.4 介电损耗 | 第14-15页 |
| 1.1.5 介电弛豫 | 第15-19页 |
| 1.2 CaCu_3Ti_4O_(12)材料 | 第19-21页 |
| 1.2.1 CaCu_3Ti_4O_(12)材料晶体结构 | 第19-20页 |
| 1.2.2 CaCu_3Ti_4O_(12)材料巨介电特性 | 第20-21页 |
| 1.3 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜国内外研究现状 | 第21-23页 |
| 1.4 课题主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜的制备、结构及性能表征 | 第25-32页 |
| 2.1 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜的制备 | 第25-28页 |
| 2.1.1 CaCu_3Ti_4O_(12)靶材的制备 | 第25-26页 |
| 2.1.2 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜沉积 | 第26-28页 |
| 2.1.3 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜的热处理 | 第28页 |
| 2.1.4 Pt电极的制备 | 第28页 |
| 2.2 薄膜结构、形貌和性能的表征 | 第28-32页 |
| 2.2.1 X-Ray衍射(XRD) | 第28-29页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第29-30页 |
| 2.2.3 原子力显微镜(AFM) | 第30-31页 |
| 2.2.4 介电性能表征 | 第31-32页 |
| 第3章 制备工艺对CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜结构与性能的影响 | 第32-43页 |
| 3.1 溅射气压对CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜结构和介电性能的影响 | 第32-33页 |
| 3.2 退火温度对CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜结构和介电性能的影响 | 第33-35页 |
| 3.3 退火气氛对CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜结构和介电性能的影响 | 第35-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 共溅射法制备Nb掺杂CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜 | 第43-50页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 Nb掺杂CaCu_3Ti4O_(12)薄膜的制备 | 第44页 |
| 4.3 Nb掺杂功率对CaCu_3Ti4O_(12)薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| 4.4 Nb掺杂功率对CaCu_3Ti4O_(12)薄膜介电性能的影响 | 第46-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 总结 | 第50-51页 |
| 5.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
