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聚变装置中边界等离子体的磁鞘层特性

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-15页
   ·等离子体第9-10页
     ·等离子体的定义第9页
     ·等离子体的发展第9-10页
     ·等离子体的分类及研究方法第10页
   ·等离子体鞘层第10-11页
   ·受控核聚变第11-13页
     ·核聚变的发展第11-12页
     ·聚变装置中边缘等离子体以及等离子体与器壁相互作用第12-13页
   ·等离子体鞘层研究的发展及本文的结构与内容第13-15页
2 离子磁化的等离子体鞘层特性第15-34页
   ·物理模型第15-21页
   ·数值计算结果与讨论第21-33页
     ·磁场方向对鞘层特性的影响第21-26页
     ·磁场大小对鞘层特性的影响第26-27页
     ·离子温度对鞘层特性的影响第27-29页
     ·等离子体密度对鞘层特性的影响第29-31页
     ·不同等离子体对鞘层特性的影响第31-33页
   ·本章小结第33-34页
3 二次电子发射对离子磁化等离子体鞘层的影响第34-58页
   ·物理模型第34-39页
   ·数值计算结果与讨论第39-56页
     ·二次电子发射对鞘层特性的影响第39-41页
     ·不同等离子体对鞘层特性的影响第41-44页
     ·磁场方向对鞘层特性的影响第44-48页
     ·磁场大小对鞘层特性的影响第48-51页
     ·离子温度对鞘层的影响第51-53页
     ·等离子体密度对鞘层的影响第53-56页
   ·本章小结第56-58页
结论第58-60页
参考文献第60-62页
附录A 附录内容名称第62-64页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第64-65页
致谢第65-67页

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