| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 场发射简介 | 第10-11页 |
| 1.2 场发射理论 | 第11-12页 |
| 1.3 场发射材料 | 第12-16页 |
| 1.3.1 金属材料 | 第13-14页 |
| 1.3.2 半导体材料 | 第14-16页 |
| 1.4 碳材料 | 第16-20页 |
| 1.4.1 碳纳米管 | 第16-18页 |
| 1.4.2 石墨烯 | 第18-20页 |
| 1.5 选题的意义与研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验方法 | 第22-25页 |
| 2.1 实验仪器与药品 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第22页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第22-23页 |
| 2.2 分析表征设备及简介 | 第23页 |
| 2.3 场发射测试设备 | 第23-25页 |
| 第3章 微孔图案化石墨烯阵列的制备及场发射性能研究 | 第25-31页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 实验部分 | 第25-26页 |
| 3.2.1 微孔图案化石墨烯场发射阴极的制备 | 第25-26页 |
| 3.2.2 结构表征 | 第26页 |
| 3.2.3 场发射测试 | 第26页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第26-30页 |
| 3.3.1 形貌和结构表征 | 第26-29页 |
| 3.3.2 场发射性能 | 第29-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 PECVD合成石墨烯墙及场发射性能研究 | 第31-42页 |
| 4.1 引言 | 第31页 |
| 4.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 4.2.1 石墨墙阴极的制备 | 第31-33页 |
| 4.2.2 结构表征 | 第33页 |
| 4.2.3 场发射测试 | 第33页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第33-41页 |
| 4.3.1 形貌和结构表征 | 第33-38页 |
| 4.3.2 场发射性能 | 第38-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第5章 碳纳米管阵列的可控制备及场发射性能研究 | 第42-55页 |
| 5.1 引言 | 第42页 |
| 5.2 实验部分 | 第42-45页 |
| 5.2.1 基底图案化设计及催化剂的沉积 | 第42-44页 |
| 5.2.2 碳纳米管的制备方法 | 第44页 |
| 5.2.3 结构表征 | 第44页 |
| 5.2.4 场发射测试 | 第44-45页 |
| 5.3 大尺寸图案化基底制备碳纳米管阵列及场发射性能 | 第45-50页 |
| 5.3.1 形貌和结构表征 | 第45-48页 |
| 5.3.2 场发射性能 | 第48-50页 |
| 5.4 小尺寸图案化基底制备碳纳米管阵列及场发射性能 | 第50-53页 |
| 5.4.1 形貌和结构表征 | 第50-52页 |
| 5.4.2 场发射性能 | 第52-53页 |
| 5.5 不锈钢基底制备碳纳米管阵列的场发射性能 | 第53-54页 |
| 5.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-64页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务和主要成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |
