| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 混合导体透氢膜的透氢机理 | 第12-14页 |
| 1.3 混合导体透氢膜的制备 | 第14-17页 |
| 1.3.1 膜材料粉体的合成 | 第14-16页 |
| 1.3.1.1 高温固相反应法 | 第14页 |
| 1.3.1.2 溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
| 1.3.1.3 化学共沉淀法 | 第15页 |
| 1.3.1.4 喷雾热解法 | 第15-16页 |
| 1.3.2 混合导体透氢膜的成型 | 第16页 |
| 1.3.2.1 单轴压制成型法 | 第16页 |
| 1.3.2.2 挤压成型法 | 第16页 |
| 1.3.2.3 相转化法 | 第16页 |
| 1.3.3 混合导体透氢膜的烧结致密 | 第16-17页 |
| 1.4 混合导体透氢膜的分类及研究概况 | 第17-22页 |
| 1.4.1 钙钛矿型透氢膜 | 第17-19页 |
| 1.4.2 萤石型透氢膜 | 第19-20页 |
| 1.4.3 钨酸镧基透氢膜 | 第20-22页 |
| 1.5 混合导体透氢膜的应用 | 第22-25页 |
| 1.5.1 水汽变换膜反应器 | 第22-23页 |
| 1.5.2 甲烷脱氢偶联膜反应器 | 第23-24页 |
| 1.5.3 合成氨膜反应器 | 第24-25页 |
| 1.6 本论文的研究思路及研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 实验与表征方法 | 第26-31页 |
| 2.1 主要实验原料及仪器 | 第26-27页 |
| 2.2 混合导体透氢膜的相关表征 | 第27-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第27页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM)和能量散射X射线能谱(EDXS) | 第27页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第27-28页 |
| 2.2.4 程序升温氢还原测试(TPR) | 第28页 |
| 2.3 混合导体透氢膜片的电导率测定 | 第28-29页 |
| 2.4 混合导体透氢膜片的高温透氢性能测试 | 第29-31页 |
| 第三章 氟掺杂的钨酸镧基混合导体透氢膜的制备及其性能研究 | 第31-48页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-47页 |
| 3.3.1 LWMF_x膜片的相结构分析 | 第33-34页 |
| 3.3.2 LWMF_x膜片的元素分析 | 第34-37页 |
| 3.3.3 LWMF_x膜片的透氢性能 | 第37-41页 |
| 3.3.4 LWMF_(0.05)膜片的透氢稳定性 | 第41-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 氯掺杂的钨酸镧基混合导体透氢膜的制备及其性能研究 | 第48-64页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 实验部分 | 第49-50页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第50-62页 |
| 4.3.1 粉体合成方法对膜材料性能的影响 | 第50-53页 |
| 4.3.2 LWMCl_x粉体及其膜片的相结构分析 | 第53-54页 |
| 4.3.3 LWMCl_x膜片的元素分析 | 第54-57页 |
| 4.3.4 LWMCl_x膜片的透氢性能 | 第57-60页 |
| 4.3.5 LWMCl_(0.10)膜片的透氢稳定性 | 第60-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 非对称La_(5.5)W_(0.6)Mo_(0.4)O_(11.25-δ)F_(0.05)膜的透氢性能研究 | 第64-75页 |
| 5.1 引言 | 第64-65页 |
| 5.2 实验部分 | 第65-66页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第66-73页 |
| 5.3.1 LWMF_(0.05)非对称膜的相结构分析 | 第66页 |
| 5.3.2 LWMF_(0.05)非对称膜的形貌表征 | 第66-68页 |
| 5.3.3 LWMF_(0.05)非对称膜的透氢性能 | 第68-71页 |
| 5.3.4 LWMF_(0.05)非对称膜的透氢稳定性 | 第71-73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 结论与展望 | 第75-78页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-92页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第92-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 附件 | 第95页 |
