| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·电介质及介电材料应用 | 第8-10页 |
| ·电介质 | 第8-9页 |
| ·介电材料应用 | 第9-10页 |
| ·CCTO 材料及研究进展 | 第10-15页 |
| ·本论文研究目的及科学意义 | 第15-16页 |
| 第二章 制备和表征方法介绍 | 第16-25页 |
| ·磁控溅射设备及其原理 | 第16-18页 |
| ·磁控溅射设备简介 | 第16页 |
| ·溅射及其原理 | 第16-18页 |
| ·薄膜生长机理 | 第18-21页 |
| ·亚单层形核规律 | 第19页 |
| ·原子扩散过程 | 第19页 |
| ·多层膜的外延生长 | 第19-21页 |
| ·镀电极设备及原理 | 第21-22页 |
| ·蒸发镀电极设备 | 第21页 |
| ·蒸发镀电极原理 | 第21-22页 |
| ·X 射线及其衍射 | 第22-23页 |
| ·LCR Meter 测试原理介绍 | 第23-25页 |
| 第三章 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜的制备及表征 | 第25-29页 |
| ·CaCu_3Ti_4O_(12) 靶材的制作 | 第25页 |
| ·CaCu_3Ti_4O_(12) 薄膜制备的生长过程 | 第25-26页 |
| ·衬底处理 | 第25页 |
| ·薄膜生长过程 | 第25-26页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第26-27页 |
| ·CCTO 薄膜的XRD 谱图 | 第27-28页 |
| ·不同退火温度CCTO 薄膜的XRD 谱图 | 第27页 |
| ·CCTO 粉末，靶材，薄膜的XRD 图谱 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第四章 CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜介电性质的研究 | 第29-37页 |
| ·电极的制备过程和测试示意图及计算公式 | 第29-30页 |
| ·蒸发镀电极过程 | 第29页 |
| ·样品测试示意图及计算公式 | 第29-30页 |
| ·退火温度对CaCu_3Ti_4O_(12) 薄膜介电性质的影响 | 第30-33页 |
| ·电极对CaCu_3Ti_4O_(12) 薄膜介电性质的影响 | 第33-36页 |
| ·不同电极未退火薄膜电介质能谱 | 第33-35页 |
| ·不同电极退火后薄膜电介质能谱 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 结论 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-41页 |
| 致谢 | 第41页 |
