| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第20-43页 |
| 1.1 引言 | 第20页 |
| 1.2 Ti_2AlNb合金的研究现状 | 第20-26页 |
| 1.2.1 Ti_2AlNb合金的起源及发展 | 第20-21页 |
| 1.2.2 Ti_2AlNb合金的组织结构及性能 | 第21-24页 |
| 1.2.3 Ti_2AlNb合金表面防护涂层 | 第24-26页 |
| 1.3 微弧氧化研究现状 | 第26-31页 |
| 1.3.1 微弧氧化的起源及应用 | 第26页 |
| 1.3.2 微弧氧化的控制因素 | 第26-28页 |
| 1.3.3 微弧氧化涂层的性能及封孔处理 | 第28-31页 |
| 1.4 抗氧化涂层的研究现状 | 第31-34页 |
| 1.4.1 高温氧化的基本理论 | 第31-33页 |
| 1.4.2 Ti-Al合金表面抗氧化涂层的研究 | 第33-34页 |
| 1.5 高发射率涂层的研究现状 | 第34-39页 |
| 1.5.1 红外辐射的基本理论 | 第34-36页 |
| 1.5.2 高发射率材料的应用 | 第36-37页 |
| 1.5.3 涂层发射率的控制因素 | 第37页 |
| 1.5.4 高发射率涂层的制备方法 | 第37-39页 |
| 1.6 涂层摩擦磨损性能的研究现状 | 第39-42页 |
| 1.6.1 摩擦磨损的基本理论 | 第39-40页 |
| 1.6.2 Ti合金表面减摩耐磨涂层的制备方法 | 第40-41页 |
| 1.6.3 Ti合金表面MAO涂层摩擦磨损性能的研究 | 第41-42页 |
| 1.7 本文的研究目的和主要研究内容 | 第42-43页 |
| 第2章 涂层体系设计与研究方法 | 第43-55页 |
| 2.1 涂层体系设计 | 第43-45页 |
| 2.2 试验用原材料 | 第45-49页 |
| 2.2.1 试验用粉体添加剂 | 第46页 |
| 2.2.2 Ti_2AlNb合金基体 | 第46-49页 |
| 2.3 涂层制备方法及试验装置 | 第49页 |
| 2.4 材料组织结构分析方法 | 第49-51页 |
| 2.4.1 物相分析 | 第49-50页 |
| 2.4.2 形貌观察及分析 | 第50-51页 |
| 2.4.3 涂层厚度测试 | 第51页 |
| 2.4.4 涂层表面粗糙度测试 | 第51页 |
| 2.5 材料高温氧化性能测试 | 第51页 |
| 2.6 材料热辐射性能测试 | 第51-52页 |
| 2.7 涂层结合强度测试 | 第52-53页 |
| 2.8 材料显微硬度测试 | 第53页 |
| 2.9 材料摩擦磨损性能测试 | 第53-55页 |
| 2.9.1 摩擦系数 | 第53页 |
| 2.9.2 磨损率 | 第53-55页 |
| 第3章 微弧氧化陶瓷涂层的工艺优化 | 第55-77页 |
| 3.1 NaAlO_2电解液中制备陶瓷涂层的工艺参数 | 第55-59页 |
| 3.1.1 NaAlO_2电解液中制备陶瓷涂层的正交试验 | 第55-58页 |
| 3.1.2 NaAlO_2电解液中制备陶瓷涂层的验证试验 | 第58-59页 |
| 3.2 Na_2SiO_3电解液中制备陶瓷涂层的工艺参数 | 第59-62页 |
| 3.2.1 Na_2SiO_3电解液中制备陶瓷涂层的正交试验 | 第59-61页 |
| 3.2.2 Na_2SiO_3电解液中制备陶瓷涂层的验证试验 | 第61-62页 |
| 3.3 不同电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第62-66页 |
| 3.3.1 不同电解液中制备陶瓷涂层的物相分析 | 第62-64页 |
| 3.3.2 不同电解液中制备陶瓷涂层的组织形貌 | 第64-66页 |
| 3.4 分步控压工艺制备陶瓷涂层的组织结构 | 第66-71页 |
| 3.4.1 NaAlO_2电解液中采用分步控压制备陶瓷涂层的组织结构 | 第66-68页 |
| 3.4.2 Na_2SiO_3电解液中采用分步控压制备陶瓷涂层的组织结构 | 第68-70页 |
| 3.4.3 分步控压工艺对微弧氧化陶瓷涂层组织结构的影响 | 第70-71页 |
| 3.5 不同放电时间制备陶瓷涂层的组织结构 | 第71-75页 |
| 3.5.1 NaAlO_2电解液中不同放电时间制备陶瓷涂层的组织结构 | 第71-73页 |
| 3.5.2 Na_2SiO_3电解液中不同放电时间制备陶瓷涂层的组织结构 | 第73-75页 |
| 3.6 制备工艺对微弧氧化陶瓷涂层组织结构的影响 | 第75-76页 |
| 3.7 本章小结 | 第76-77页 |
| 第4章 添加剂对微弧氧化陶瓷涂层组织结构的影响 | 第77-99页 |
| 4.1 NaAlO_2-NaF电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第77-80页 |
| 4.1.1 NaAlO_2-NaF电解液中制备陶瓷涂层的物相组成 | 第77-78页 |
| 4.1.2 NaAlO_2-NaF电解液中制备陶瓷涂层的显微结构 | 第78-80页 |
| 4.2 NaAlO_2-Na_2CrO_4电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第80-84页 |
| 4.2.1 NaAlO_2-Na_2CrO_4电解液中制备陶瓷涂层的物相组成 | 第81-82页 |
| 4.2.2 NaAlO_2-Na_2CrO_4电解液中制备陶瓷涂层的显微结构 | 第82-84页 |
| 4.3 NaAlO_2-Al_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第84-86页 |
| 4.3.1 NaAlO_2-Al_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的物相组成 | 第84-85页 |
| 4.3.2 NaAlO_2-Al_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的显微结构 | 第85-86页 |
| 4.4 Na_2SiO_3-SiC电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第86-89页 |
| 4.4.1 Na_2SiO_3-SiC电解液中制备陶瓷涂层的物相组成 | 第87页 |
| 4.4.2 Na_2SiO_3-SiC电解液中制备陶瓷涂层的显微结构 | 第87-89页 |
| 4.5 Na_2SiO_3-NH_4VO_3-Cr_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第89-96页 |
| 4.5.1 Na_2SiO_3-NH_4VO_3电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第89-92页 |
| 4.5.2 Na_2SiO_3-Cr_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第92-94页 |
| 4.5.3 Na_2SiO_3-NH_4VO_3-Cr_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的组织结构 | 第94-96页 |
| 4.6 添加剂对微弧氧化陶瓷涂层组织结构的影响 | 第96-98页 |
| 4.7 本章小结 | 第98-99页 |
| 第5章 Ti_2AlNb合金微弧氧化陶瓷涂层高温氧化行为 | 第99-128页 |
| 5.1 不同电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化行为 | 第99-106页 |
| 5.1.1 Ti_2AlNb合金的高温氧化产物 | 第99-101页 |
| 5.1.2 不同电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化产物 | 第101-105页 |
| 5.1.3 不同电解液中制备陶瓷涂层的氧化动力学 | 第105-106页 |
| 5.2 制备工艺对NaAlO_2电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化行为的影响 | 第106-110页 |
| 5.2.1 NaAlO_2电解液中分步控压制备陶瓷涂层的高温氧化产物 | 第106-109页 |
| 5.2.2 NaAlO_2电解液中分步控压制备陶瓷涂层的氧化动力学 | 第109-110页 |
| 5.3 NaAlO_2-NaF电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化行为 | 第110-114页 |
| 5.3.1 NaAlO_2-NaF电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化产物 | 第110-112页 |
| 5.3.2 NaAlO_2-NaF电解液中制备陶瓷涂层的氧化动力学 | 第112-114页 |
| 5.4 NaAlO_2-Na_2CrO_4电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化行为 | 第114-119页 |
| 5.4.1 NaAlO_2-Na_2CrO_4电解液中制备的陶瓷涂层的高温氧化产物 | 第114-118页 |
| 5.4.2 NaAlO_2-Na_2CrO_4电解液中制备陶瓷涂层的氧化动力学 | 第118-119页 |
| 5.5 NaAlO_2-Al_2O_3电解液中制备陶瓷涂层的高温氧化行为 | 第119-124页 |
| 5.5.1 NaAlO_2-Al_2O_3电解液中制备的陶瓷涂层的高温氧化产物 | 第119-122页 |
| 5.5.2 NaAlO_2-Al_2O_3电解液中制备的陶瓷涂层的氧化动力学 | 第122-124页 |
| 5.6 组织结构对微弧氧化陶瓷涂层抗高温氧化性能的影响 | 第124-125页 |
| 5.7 微弧氧化陶瓷涂层的高温氧化机理 | 第125-126页 |
| 5.8 本章小结 | 第126-128页 |
| 第6章 Ti_2AlNb合金微弧氧化陶瓷涂层的热辐射性能 | 第128-140页 |
| 6.1 不同电解液中制备陶瓷涂层的热辐射性能 | 第128-129页 |
| 6.2 制备工艺对Na_2SiO_3电解液中制备陶瓷涂层的热辐射性能的影响 | 第129-132页 |
| 6.2.1 Na_2SiO_3电解液中分步控压对陶瓷涂层高温发射率的影响 | 第129-130页 |
| 6.2.2 Na_2SiO_3电解液中放电时间对陶瓷涂层高温发射率的影响 | 第130-132页 |
| 6.3 Na_2SiO_3-SiC电解液中制备陶瓷涂层的热辐射性能 | 第132-133页 |
| 6.3.1 Na_2SiO_3-SiC电解液中制备陶瓷涂层的高温发射率 | 第132页 |
| 6.3.2 SiC对MAO陶瓷涂层高温发射率的影响 | 第132-133页 |
| 6.4 Na_2SiO_3-Cr2O3-NH_4VO_3电解液中制备陶瓷涂层的热辐射性能 | 第133-136页 |
| 6.4.1 Na_2SiO_3-NH_4VO_3电解液中制备陶瓷涂层的高温发射率 | 第133页 |
| 6.4.2 Na_2SiO_3-Cr2O3电解液中制备陶瓷涂层的高温发射率 | 第133-134页 |
| 6.4.3 Na_2SiO_3-Cr2O3-NH_4VO_3电解液中制备陶瓷涂层的高温发射率 | 第134-135页 |
| 6.4.4 NH_4VO_3与Cr2O3对陶瓷涂层高温发射率的影响 | 第135-136页 |
| 6.5 组织结构对微弧氧化陶瓷涂层高温发射率的影响 | 第136-137页 |
| 6.6 微弧氧化陶瓷涂层的热辐射机理 | 第137-138页 |
| 6.7 本章小结 | 第138-140页 |
| 第7章 Ti_2AlNb合金微弧氧化陶瓷涂层的力学及摩擦磨损性能 | 第140-164页 |
| 7.1 微弧氧化陶瓷涂层的结合性能 | 第140-144页 |
| 7.1.1 陶瓷涂层的结合强度 | 第141-142页 |
| 7.1.2 陶瓷涂层的拉伸破坏机制 | 第142-144页 |
| 7.2 微弧氧化陶瓷涂层的显微硬度 | 第144-145页 |
| 7.3 微弧氧化陶瓷涂层的室温摩擦磨损性能 | 第145-152页 |
| 7.3.1 不同电解液中制备陶瓷涂层的室温摩擦磨损行为 | 第145-147页 |
| 7.3.2 NaAlO_2电解液中制备陶瓷涂层的室温摩擦磨损行为 | 第147-149页 |
| 7.3.3 Na_2SiO_3电解液中制备陶瓷涂层的室温摩擦磨损行为 | 第149-152页 |
| 7.4 微弧氧化陶瓷涂层的高温摩擦磨损性能 | 第152-159页 |
| 7.4.1 不同电解液中制备陶瓷涂层的高温摩擦磨损行为 | 第152-154页 |
| 7.4.2 NaAlO_2电解液中制备陶瓷涂层的高温摩擦磨损行为 | 第154-156页 |
| 7.4.3 Na_2SiO_3电解液中制备陶瓷涂层的高温摩擦磨损行为 | 第156-159页 |
| 7.5 微弧氧化陶瓷涂层的磨损机制 | 第159-161页 |
| 7.6 微弧氧化陶瓷涂层的综合性能 | 第161-163页 |
| 7.7 本章小结 | 第163-164页 |
| 结论 | 第164-167页 |
| 参考文献 | 第167-179页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第179-182页 |
| 致谢 | 第182-183页 |
| 个人简历 | 第183页 |
