摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-6页 |
目录 | 第6-9页 |
第一章 引言 | 第9-22页 |
·铜概况 | 第9-11页 |
·铜的物化性质 | 第9页 |
·铜及高纯铜的用途 | 第9-10页 |
·我国铜资源及生产概况 | 第10-11页 |
·铜冶炼 | 第11-13页 |
·火法炼铜 | 第11-12页 |
·湿法炼铜 | 第12-13页 |
·再生铜熔炼 | 第13页 |
·电解精炼铜 | 第13-19页 |
·传统电解精炼铜 | 第14-15页 |
·新型电解精炼铜 | 第15-19页 |
·超声波法 | 第15页 |
·周期反向电流法 | 第15-16页 |
·脉冲电流法 | 第16-17页 |
·不锈钢阴极电解法 | 第17-18页 |
·交直流叠加电解法 | 第18-19页 |
·铜电解精炼影响因素 | 第19-20页 |
·本文的研究目的、意义及内容 | 第20-22页 |
第二章 实验方法 | 第22-26页 |
·实验仪器和试剂 | 第22-23页 |
·实验仪器 | 第22页 |
·实验试剂 | 第22-23页 |
·直流电解精炼铜 | 第23-24页 |
·电极制备及电解液配制 | 第23页 |
·直流电解精炼铜实验 | 第23-24页 |
·交直流叠加电解精炼铜 | 第24-25页 |
·电解精炼过程 | 第24-25页 |
·实验结果分析表征 | 第25页 |
·添加剂对铜电解精炼的影响 | 第25-26页 |
·单一添加剂对铜电解精炼的影响 | 第25页 |
·复合添加剂对铜电解精炼的影响 | 第25-26页 |
第三章 交直流叠加电解精炼铜相关工艺参数确定 | 第26-55页 |
·直流电解相关工艺参数确定 | 第26-29页 |
·电解温度对阴极铜沉积影响 | 第26-27页 |
·极间距对阴极铜沉积影响 | 第27页 |
·硫酸含量对阴极铜沉积影响 | 第27-28页 |
·硫酸铜含量对阴极铜沉积影响 | 第28页 |
·电流密度对阴极铜沉积影响 | 第28-29页 |
·交直流叠加电解相关工艺参数确定 | 第29-54页 |
·交流电的振幅对阴极铜沉积的影响 | 第30-32页 |
·交流电振幅对阴极铜沉积层质量影响 | 第30-31页 |
·交流电振幅对沉积速率的影响 | 第31-32页 |
·交流电频率对阴极铜沉积的影响 | 第32-34页 |
·交流电频率对阴极铜沉积层质量的影响 | 第32-34页 |
·交流电频率对沉积速率的影响 | 第34页 |
·电解温度对阴极铜沉积的影响 | 第34-37页 |
·电解温度对阴极铜沉积层质量的影响 | 第34-36页 |
·电解温度对沉积速率的影响 | 第36-37页 |
·极间距对阴极铜沉积的影响 | 第37-40页 |
·极间距对阴极铜沉积层质量的影响 | 第37-39页 |
·极间距对沉积速率的影响 | 第39-40页 |
·电解液配比对阴极铜沉积的影响 | 第40-43页 |
·电解液配比对阴极铜沉积层质量影响 | 第40-42页 |
·电解液配比对沉积速率的影响 | 第42-43页 |
·电流密度对阴极铜沉积的影响 | 第43-46页 |
·电流密度对阴极铜沉积层质量影响 | 第43-45页 |
·电流密度对沉积速率的影响 | 第45-46页 |
·电解时间对阴极铜沉积的影响 | 第46-49页 |
·电解时间对阴极铜沉积层质量的影响 | 第46-48页 |
·电解时间对沉积速率的影响 | 第48-49页 |
·直流电及交直流叠加电解阴极铜SEM及XRD分析 | 第49-54页 |
·直流及较高电流密度交直流叠加电解阴极铜SEM分析 | 第50-51页 |
·直流及较高电流密度交直流叠加电解阴极铜XRD分析 | 第51-54页 |
·小结 | 第54-55页 |
第四章 添加剂对铜电解精炼的影响 | 第55-75页 |
·添加剂概述 | 第55-56页 |
·添加剂存在时电化学测试和电解精炼实验 | 第56页 |
·单一添加剂电化学行为讨论及对阴极铜质量影响 | 第56-63页 |
·使用单一添加剂时体系的极化曲线 | 第56-59页 |
·聚丙烯酰胺存在时极化曲线研究 | 第56-57页 |
·十二烷基苯磺酸钠存在时极化曲线研究 | 第57-58页 |
·自制添加剂A存在时极化曲线研究 | 第58-59页 |
·循环伏安法研究几种添加剂在铜沉积中的电化学行为 | 第59-60页 |
·单一添加剂存在时对阴极铜表观质量影响 | 第60-63页 |
·聚丙烯酰胺对阴极铜沉积影响 | 第60-61页 |
·十二烷基苯磺酸钠对阴极铜沉积影响 | 第61-62页 |
·自制添加剂A对阴极铜沉积影响 | 第62-63页 |
·几种复合添加剂对铜电解精炼的影响 | 第63-64页 |
·复合添加剂对阴极铜质量影响及电化学结果讨论 | 第64-73页 |
·空白实验阴极金相显微镜照片 | 第64-65页 |
·复合添加剂Ⅱ-Ⅵ对阴极铜沉积的影响 | 第65-66页 |
·复合添加剂Ⅶ-Ⅹ对阴极铜沉积的影响 | 第66-68页 |
·复合添加剂Ⅺ-ⅩⅢ对阴极铜沉积的影响 | 第68-69页 |
·复合添加剂ⅩⅣ-ⅩⅦ对阴极铜沉积的影响 | 第69-73页 |
·复合添加剂ⅩⅥ循环伏安曲线研究 | 第70-71页 |
·复合添加剂ⅩⅥ交流阻抗曲线研究 | 第71-72页 |
·复合添加剂ⅩⅥ存在时阴极铜扫描电镜照片 | 第72页 |
·使用复合添加剂ⅩⅥ时XRD衍射结果分析 | 第72-73页 |
·小结 | 第73-75页 |
结论与展望 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
攻读硕士期间发表论文情况 | 第81页 |