| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 自旋电子学的发展背景及研究进展 | 第11-13页 |
| 1.3 自旋动力学的发展背景及研究进展 | 第13-15页 |
| 1.4 内嵌富勒烯的发展背景及研究进展 | 第15-18页 |
| 1.5 本文的主要工作和研究内容 | 第18-21页 |
| 第二章 理论与方法 | 第21-36页 |
| 2.1 Λ进程理论模型 | 第21-22页 |
| 2.2 Hartree-Fork近似 | 第22-24页 |
| 2.3 组态相互作用方法 | 第24-26页 |
| 2.4 对称性匹配簇-组态相互作用方法 | 第26-27页 |
| 2.5 自旋轨道耦合效应与外加磁场 | 第27-29页 |
| 2.6 含时微扰理论 | 第29-32页 |
| 2.7 密度泛函理论 | 第32-36页 |
| 2.7.1 Hohenbery-Kohn定理 | 第33页 |
| 2.7.2 Kohn-Sham方程 | 第33-34页 |
| 2.7.3 交换关联近似 | 第34-36页 |
| 第三章 内嵌金属碳富勒烯中的自旋动力学行为 | 第36-48页 |
| 3.1 内嵌金属富勒烯[Co@C_(60)]~+中的自旋动力学行为 | 第36-40页 |
| 3.1.1 内嵌金属富勒烯[Co@C_(60)]~+中的几何结构优化 | 第36-37页 |
| 3.1.2 内嵌金属富勒烯[Co@C_(60)]~+中的自旋密度分布 | 第37-38页 |
| 3.1.3 内嵌金属富勒烯[Co@C_(60)]~+中的自旋翻转过程 | 第38-40页 |
| 3.2 H-H型Co_2@C_(60)分子中的自旋动力学行为 | 第40-43页 |
| 3.2.1 H-H型Co_2@C_(60)分子中的几何结构优化 | 第40-41页 |
| 3.2.2 H-H型Co_2@C_(60)分子中的自旋密度分布 | 第41-42页 |
| 3.2.3 H-H型Co_2@C_(60)分子中的自旋翻转过程 | 第42-43页 |
| 3.3 受拉应变条件下H-H型Co_2@C_(60)分子中的自旋动力学行为 | 第43-48页 |
| 3.3.1 受拉应变条件下H-H型Co_2@C_(60)分子的几何结构优化 | 第43-44页 |
| 3.3.2 受拉应变条件下H-H型Co_2@C_(60)分子的自旋密度分布 | 第44-45页 |
| 3.3.3 受拉应变条件下H-H型Co_2@C_(60)分子的自旋翻转过程 | 第45-48页 |
| 第四章 内嵌金属硼富勒烯中的力-磁-光耦合动力学行为 | 第48-71页 |
| 4.1 内嵌金属富勒烯Ni@B_(80)的自旋动力学行为 | 第48-54页 |
| 4.2 硼富勒烯B_(40)的结构及力学性质 | 第54-57页 |
| 4.3 内嵌金属富勒烯[Co@B_(40)]~-中的自旋动力学行为 | 第57-62页 |
| 4.3.1 内嵌金属富勒烯[Co@B_(40)]~-中的几何结构优化 | 第57-59页 |
| 4.3.2 内嵌金属富勒烯[Co@B_(40)]~-中的自旋密度分布 | 第59-60页 |
| 4.3.3 内嵌金属富勒烯[Co@B_(40)]~-中的自旋动力学行为 | 第60-62页 |
| 4.4 Hep型[Co@B_(40)]~-中自旋动力学过程的应变调控 | 第62-71页 |
| 4.4.1 单轴应变状态下[Co@B_(40)]~-的结构稳定性分析 | 第62-63页 |
| 4.4.2 单轴应变状态下Hep型[Co@B_(40)]~-中的自旋密度分布 | 第63-64页 |
| 4.4.3 Hep型[Co@B_(40)]~-自旋翻转过程的应变调控 | 第64-71页 |
| 第五章 总结与展望 | 第71-74页 |
| 5.1 文章总结 | 第71-73页 |
| 5.2 工作展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 在校期间发表论文情况 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
