| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| 1.1 TFT-LCD发展史 | 第7页 |
| 1.2 TFT-LCD产业现状 | 第7-9页 |
| 第二章 TFT-LCD显示技术的特点及原理 | 第9-19页 |
| 2.1 TFT-LCD显示技术的特点 | 第9-10页 |
| 2.2 TFT-LCD的显示原理 | 第10-14页 |
| 2.3 TFT-LCD制成工艺简介 | 第14-19页 |
| 第三章 TFT-LCD工艺缺陷简介 | 第19-29页 |
| 3.1 TFT-LCD工艺缺陷的产生及其影响 | 第19-23页 |
| 3.1.1 阵列工艺缺陷简介 | 第19-21页 |
| 3.1.2 成盒工艺缺陷简介 | 第21-23页 |
| 3.1.3 彩膜缺陷简介 | 第23页 |
| 3.2 TFT-LCD阵列缺陷深入研究 | 第23-29页 |
| 第四章 TFT-LCD阵列缺陷检测 | 第29-51页 |
| 4.1 TFT-LCD常规阵列缺陷的检测方法 | 第29-42页 |
| 4.1.1 TFT-LCD阵列缺陷光学检测法 | 第29-31页 |
| 4.1.2 TFT-LCD阵列缺陷Open-Short电场感应检测法 | 第31-34页 |
| 4.1.3 TFT-LCD阵列缺陷的光电耦合成像检测法 | 第34-40页 |
| 4.1.4 TFT-LCD阵列缺陷的电子束成像检测法 | 第40-41页 |
| 4.1.5 TFT器件电学特性检测法 | 第41-42页 |
| 4.2 TFT-LCD非常规缺陷的检测方法研究 | 第42-51页 |
| 4.2.1 Slight Open型缺陷的检测 | 第42-46页 |
| 4.2.2 Invisible型缺陷的检测 | 第46-48页 |
| 4.2.3 外围电路缺陷的检测方法 | 第48-51页 |
| 第五章 TFT-LCD阵列缺陷检测方法的改进 | 第51-65页 |
| 5.1 ESS test改善及对TACT time改良的贡献 | 第51-53页 |
| 5.2 通过改善TFT阵列基板检测电路设计改进检测方法 | 第53-61页 |
| 5.3 阵列检测事故性缺陷的预防 | 第61-65页 |
| 第六章 结束语 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 研究成果 | 第71-73页 |
| 附录A | 第73页 |
